[发明专利]提供具有减敏的银组分的纺织品的方法

说明书

技术领域

本发明涉及用于纤维和纺织品的抗菌修饰的方法，涉及抗微生物制剂并且 涉及用特定抗微生物组分修饰的纤维和纺织品。这里所述的活性抗微生物剂实 质上由减敏的银组分例如氯化银组成。所述活性抗微生物剂作为用于修饰纤 维、纱线、非织造纤维网和纺织品的助剂是特别有用的。

背景技术

大多数纺织品包含微生物可降解材料。它们往往是全部或部分由微生物可 降解纤维如棉、纤维素(如粘胶丝和天丝(Tencel))、大麻、亚麻、亚麻线、丝、 乙酸酯或羊毛制成。由合成纤维如聚酯、聚丙烯腈、聚酰胺(如芳族聚酰胺、 Nomex、Kevlar、尼龙-6、尼龙-66)或聚丙烯制成的纺织品也可被细菌拓殖，特 别是在用修饰剂如软化剂、疏水剂、抗静电剂和/或粘合剂处理时，或者从环境 中获得正在使用的微生物可降解材料如有机物质时。

微生物如细菌的拓殖可对纺织品的性能特征以及它们的外观产生负面影 响。此外，就细菌来说其代谢产物的分解例如可产生不良气味并危害健康。因 此，例如为了可以控制微生物如细菌导致的拓殖，有必要用防腐剂特别是抗微 生物组分来修饰纤维或纺织品。

然而，当试图用活性抗微生物剂来修饰纤维或纺织品时往往出现一些困 难，这些困难不但涉及修饰操作本身而且涉及由于所述修饰导致的现象。

纺织业期望用于修饰纤维和纺织品的抗微生物组分能满足很高的要求。例 如，为了可实现“松弛”并且聚合组分可完全聚合，修饰的纤维或纺织品在 100-130℃的温度下干燥和随后在最高180℃的温度下进行处理。在该工艺中， 可能会破坏所述抗微生物组分，或者所述抗微生物组分的高蒸发速率可能会导 致活性成分损失。由于所述纺织品的表面积大且修饰层的厚度小，在所述纺织 品的实际应用中，修饰后残留在纤维上的活性抗微生物成分在清洗操作中能够 被洗掉。随着时间的流逝，该洗掉导致了进一步的活性成分损失。此外，在感 光抗微生物剂的制备中，光的影响可导致活性抗微生物剂成分分解。在进行修 饰后，所述抗微生物组分与其它成分的相互作用产生了所述纺织品的可见变 色。

在现有技术中存在着对于具有低蒸发速率以及在清洗操作中仍大量保留 在纤维上的有效抗微生物活性成分的描述。然而，由于其毒性影响或其它缺点， 本身令人满意的抗微生物活性成分却不太适用于纺织品的修饰。例如，当将已 被修饰成抗微生物的纺织品进行裁制(例如切割、缝纫等)时，可引起皮肤刺激， 因为在预期应用期间即使在该纺织品未接触到人体的情况中，也会发生皮肤接 触。

德国专利申请DE-A4339374涉及制备用抗微生物活性组分修饰的纤维的方 法。所用的所述抗微生物活性组分是含银无机杀菌剂，它和脱色抑制剂一起用 于处理溶液中。该脱色抑制剂由苯并三唑衍生物组成。

国际专利申请WO 1996/01119描述了除包含银离子外，还包含稳定组分的 抗微生物组合物。在WO 1996/01119中的技术教导的目的是实现可用于多个领 域(sector)的所述抗微生物组合物的耐光性。使用聚醚聚合物并且加入稳定化阴 离子。如此稳定的所述抗微生物组合物例如在泡沫塑料的制备中是有用的。

EP-A0446993公开了对涉及照相显影剂的减敏作用有用的有机物质。特别 地，描述了作为照相显影的减敏组分的化合物频哪隐醇黄(6-乙氧基-1-甲基 -2-(3-硝基苯乙烯基)喹啉鎓磺酸甲酯)。其它文献也公开了用于摄影的染料，例 如化合物频哪隐醇绿。

由于杀灭或抗微生物活性成分的上述挥发性，尽管活性成分有所损失，但 是为了使所希望的抗微生物效果能足够满足实际需求，经常需要使用高浓度 的、往往昂贵的、具有高的最低抑菌浓度(MIC)值的活性剂，这需要明显高的 成本。此外，高的使用浓度和抗微生物活性的高损失影响了这些制品的生产期 间和使用期间的环境。

因此，对于满足尽可能多的如下标准的抗微生物制剂的研发存在着不变的 需求：

●它们应当可使用纺织工业的常规标准方法来施用；

●它们应当与尽可能多的其它纺织品效果相容；

●它们应当对于洗涤非常耐久，特别地包括纺织品由聚酯或聚酰胺组成的 情况；

●它们应当对纺织业雇员即使有影响，但影响也非常小；

●所述抗微生物活性组分应当理想地被告知给权力机关(例如EPA和 BPD)；