[发明专利]制备无机或无机/有机复合膜的方法

权利要求书

1.一种在基底上形成无机层的方法，所述方法包括：

蒸发金属烷氧化物；

冷凝所述金属烷氧化物以在所述基底上形成层；以及

使所述冷凝的金属烷氧化物层与水接触以固化所述层，其中所述 基底上的固化层的折射率在1.45至1.92之间，

其中所述金属烷氧化物包括铝、锑、砷、钡、铋、硼、铈、钆、 镓、锗、铪、铟、铁、镧、锂、镁、钼、钕、磷、硅、钠、锶、钽、 铊、锡、钛、钨、钒、钇、锌、锆的烷氧化物，或它们的混合物，术 语“固化”是指引发化学变化从而硬化膜层或增加其粘度的方法。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括在固化所述层的步骤中加 入催化剂。

3.根据权利要求1所述的方法，还包括在使所述冷凝的金属烷氧 化物层与水接触之后，使所述冷凝的金属烷氧化物层进行热处理。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述热处理在30℃至200℃ 的温度下进行。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述热处理在35℃至150℃ 的温度下进行。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述热处理在40℃至70℃ 的温度下进行。

7.根据权利要求1所述的方法，包括使所述金属烷氧化物层与液 态水接触。

8.根据权利要求1所述的方法，包括使所述金属烷氧化物层与水 蒸汽接触。

9.根据权利要求8所述的方法，包括使所述金属烷氧化物层与包 含水蒸汽的等离子体接触。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述金属烷氧化物包括钛、 锆、硅、铝、钽、钡、锡、铟、锌、镓、铋、镁、锶、硼、铈、铪、 钕、镧、钨的烷氧化物，或它们的混合物。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述金属烷氧化物包括钛 酸四乙酯、钛酸四异丙酯、钛酸四正丙酯、聚二甲氧基硅氧烷、甲基 三乙酰氧基硅烷、锆酸四正丙酯、锆酸四正丁酯、或它们的混合物。

12.根据权利要求1所述的方法，其中所述金属烷氧化物包括三 烷氧基硅烷。

13.根据权利要求1所述的方法，其中所述金属烷氧化物包括至 少两种烷氧化物的混合物，并且选择所述烷氧化物的比例，从而为所 述无机层提供预定的折射率。

14.根据权利要求1所述的方法，其中所述金属烷氧化物包括至 少两种烷氧化物的混合物，并且选择所述烷氧化物的比例，从而为所 述无机层提供预定的硬度。

15.一种在基底上形成有机/无机混合层的方法，所述方法包括：

蒸发金属烷氧化物；

蒸发有机化合物；

冷凝所述蒸发的烷氧化物和蒸发的有机化合物，以在所述基底上 形成层；以及

固化所述层，其中所述基底上的固化层的折射率在1.45至1.92之 间，

其中所述金属烷氧化物包括铝、锑、砷、钡、铋、硼、铈、钆、 镓、锗、铪、铟、铁、镧、锂、镁、钼、钕、磷、硅、钠、锶、钽、 铊、锡、钛、钨、钒、钇、锌、锆的烷氧化物，或它们的混合物，

术语“固化”是指引发化学变化从而硬化膜层或增加其粘度的方 法。

16.根据权利要求15所述的方法，其中固化所述层包括使所述金 属烷氧化物与水接触。

17.根据权利要求15所述的方法，其中所述蒸发的烷氧化物和蒸 发的化合物分别蒸发并且在冷凝到所述基底上之前在蒸气相中混合。

18.根据权利要求15所述的方法，其中所述烷氧化物和所述有机 化合物一起蒸发。

19.根据权利要求15所述的方法，其中使用闪蒸来蒸发所述烷氧 化物和所述有机化合物。

20.根据权利要求15所述的方法，其中所述有机化合物包括醇、 羧酸、酯、酸酐、乙酰基卤、硫醇或胺。