[发明专利]形成防反射膜的组合物和使用该组合物的图案形成方法

权利要求书

1.一种顶部抗反射涂层组合物，用于在光致抗蚀层上形成顶 部抗反射涂层，该光致抗蚀层通过用160～260nm的波长范围的光 形成图案，该组合物包含萘化合物、聚合物和能溶解所述萘化合 物和所述聚合物的溶剂，

其中所述萘化合物用通式(I)表示：

其中R¹～R⁸中的每一个独立地选自：

-H，

-(CH₂)_n1OH，

-(CH₂)_n2COOH，

-(CH₂)_n2NH₂，

-(CH₂)_n2COONH₂，

-(CH₂)_n2SO₃H，和

-(CH₂)_n2SO₂NH₂，

其中n1是1～4的整数，n2是0～4的整数，

并且，所述聚合物是包含下列通式(II)表示的重复单元的氟 化聚合物或者是包含通式(II)的重复单元和另一个由下列通式(III) 表示的重复单元的氟化聚合物：

-[CF₂CF(OR_fCOOH)]-(II)

其中R_f是非强制性含有醚氧原子的直链或支链全氟烷基，

-[CF₂CFX]-(III)

其中X是氟原子或氯原子。

2.依据权利要求1的顶部抗反射涂层组合物，其中所述光 是ArF准分子激光束。

3.依据权利要求1的顶部抗反射涂层组合物，其中所述溶 剂是水或能溶解所述萘化合物和所述聚合物的有机溶剂。

4.一种形成图案的方法，包含：

在基板上施覆抗蚀剂组合物，进行预焙烧，去除含在所述抗 蚀剂组合物中的溶剂以形成抗蚀层，

用权利要求1中定义的顶部抗反射涂层组合物涂布该抗蚀 层；而后干燥该顶部抗反射涂层组合物，

用160～260nm的光成像曝光该抗蚀层，和

显影该曝光的抗蚀层。