[发明专利]柔性印版的直接刻制有效

专利信息
申请号: 200780047852.4 申请日: 2007-12-07
公开(公告)号: CN101568432A 公开(公告)日: 2009-10-28
发明(设计)人: A·西曼-托夫;H·查耶特 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: B41C1/05 分类号: B41C1/05;B23K26/36
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张雪梅;王小衡
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 柔性 直接 刻制
【说明书】:

技术领域

本发明涉及用于柔性印版的直接刻制的光学打印头和方法。

背景技术

柔性印版的直接刻制需要直接使用激光系统在印版材料上刻制三 维(3-D)。这与二维(2-D)成像技术有显著的不同,2-D成像技术需 要后处理步骤来生成三维特征。

这种差异为激光成像系统引入了一些挑战:

1.激光系统必须有足够的功率来烧蚀材料;和

2.激光光斑应该足够小,以实现高质量印刷所需要的精细细节。

虽然高功率密度未必与激光可聚焦性冲突,但从实用的角度来看, 这些激光器提供了显著高于宽点激光器的每瓦特输出光功率的成本。因 此,最好是用可产生高输出的光功率的宽激光源操作,而不是用可能有 高功率密度但总输出功率相对较低的小点源。

因此,引人兴趣的是使用结合精细点激光源和宽点激光源的特点的 激光系统,精细点激光源处理需要精细细节加网(screening)的区, 宽点激光源用于特征包括大的实心区的图像部分。

授予朱芬格(Juffinger)等人的美国专利号6857365提供了通过 将浮雕引入印刷块空白的表面来生产印刷块的方法。为形成浮雕,由辐 射沿轨迹去除印刷块空白的材料。浮雕区可以通过频繁接触安装在相同 的光学头上的辐射源放射的辐射而沿同一轨迹以不同深度形成。

小川(Ogawa)的美国公开专利申请号2006/0065147提供了用两个 进程刻制柔性直接印版的方法。一个是精密刻制进程,用具有小直径的 精密刻制光束以精密刻制像素间距照射柔印直接印版以将印版刻制为 最大深度。另一个是粗略刻制过程,用具有较大直径的粗略刻制光束以 大于精密刻制像素间距的粗略刻制像素间距照射柔印直接印版以将印 版刻制到浮雕深度。一个可变的扩束器改变从单个激光源发射的激光束 的直径。

希佛斯(Sievers)的美国专利号6150629提供了用于使用调制的 激光束刻制工件表面以在工件表面形成期望的轮廓的激光刻制机。轮廓 的精细结构用具有相对较高调制频率的声光调制器调制的第一激光器 的激光束形成,而期望轮廓的深区是由第二激光器的激光束形成,为此, 一方面调制器、另一方面第二激光束源由相互关联但分离的控制信号驱 动。来自调制器和第二激光束源的两个垂直偏振的激光束分别由选择性 镜子传递和反射,共同通过单个光学系统施加到要加工的工件表面。

希佛斯(Sievers)的美国公开专利申请20060132592提供了用来 自两个或两个以上光束的合并的光通量转印图像。具体的实施例利用从 第一宽光束和与第一光束共同照射印版的多个可控的脉冲光束的合并 的照射为CTP系统烧蚀掩模印版。

小川(Ogawa)的美国公开专利申请号20060203861提供了有记录 鼓和记录头的激光刻制机,该记录鼓可以与在周边安装的柔印敏感材料 一起旋转,该记录头可平行于该记录鼓的轴移动。记录头包括:发射精 密刻制束L1的第一激光源、发射粗略刻制束L2的第二激光源、用于调 制精密刻制束L1的AOM、用于造成精密刻制束L1轴向扫描记录鼓的AOD、 用于调制粗略刻制束L2的AOM、合成装置、和用于聚集合成设备合成的 精密刻制束L1和粗略刻制束L2到柔印敏感材料上的光学器件。

发明内容

本发明是一种结合了用于处理需要精细细节加网的区的精细点辐 射源和用于处理包括大的基本实心区的宽点辐射源的特点的辐射系统。

特别是,一种用于刻制柔性印版的系统,包括:第一组的一个或多 个辐射源,每个辐射源放射具有大致相同的强度的辐射;第一一个或多 个光学元件,与第一组的一个或多个辐射源耦合,将从该第一组的一个 或多个辐射源发射的辐射成像在柔性印版上;第二组的一个或多个辐射 源,每个辐射源放射具有大致相同的强度的辐射;和第二一个或多个光 学元件,与第二组的一个或多个辐射源耦合,将从该第二组的一个或多 个辐射源发射的辐射成像在柔性印版上,其中第一组的一个或多个辐射 源的强度和光斑大小不同于第二组的一个或多个辐射源的强度和光斑 大小,其中所述第一和第二组的辐射源同时运作。

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