[发明专利]发光组件有效

专利信息
申请号: 200780046887.6 申请日: 2007-12-28
公开(公告)号: CN101578481A 公开(公告)日: 2009-11-11
发明(设计)人: 卢明;彭泽厚;胡启钊;石蕾 申请(专利权)人: 香港应用科技研究院有限公司
主分类号: F21V29/02 分类号: F21V29/02;F21V31/03;H01J61/52;F21V7/20;H01K1/58
代理公司: 深圳创友专利商标代理有限公司 代理人: 江耀纯
地址: 中国香港新界沙田香港科*** 国省代码: 中国香港;81
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光 组件
【说明书】:

技术领域

发明通常涉及发光组件,特别涉及具有散热结构的发光组件。

发明背景

发光组件通常有一个较大平面的基板或面板,其上安装有多个发光光 源,并在发光时产生热。为了保持发光源处于其最佳的热运行条件,期望 能够去除产生的热以降低发光光源和面板的温度。

图1描述这种类型的传统发光组件,其有一个垂直面板100,其上有 多个发光光源101。发光光源101产生的热通过从面板101底部经过面板 中部并到达其顶部的气流散发,由箭头103表示。当气流上升时,其由发 光源101和/或面板100逐渐加热,使得空气到达面板100顶部时比其在底 部时有更高的温度。这会反过来影响顶部的散热效率,在许多情况下这并 不是期望出现的。

此外,由于在面板顶部上相对低效的散热,顶部比底部有更高的温度。 对某些类型的发光光源而言,如发光二极管,更高的温度会导致更低的光 发射。由此,发光组件100沿着其高度会有不均匀的发光分布,这通常都 不是人们所期望的。

热沉或热管通常用于传统发光组件以增强散热。但是,这种额外装置 会使发光组件体积庞大且笨重,而增加生产成本。

本发明的一个目的是提供一种发光组件,其能够至少克服现有技术的 一些缺陷。

发明概述

依照本发明的第一方面,提供一种发光组件,此组件包括至少第一和 第二发光光源用来发光,以及一个在第一和第二发光源之间的空气通道以 允许气流通过而散发由发光光源产生的热。

优选地,此组件包括至少第一和第二面板,其中每个面板有一个支撑 第一或第二光源的上表面和一个相反的下表面,其中第一空气通道是在第 一面板的上和下表面中的一个表面和第二面板的上和下表面中的一个表面 之间形成。

优选地,第一空气通道是在第一面板的下表面和第二面板的上表面之 间形成。

优选地,空气通道被设置使得空气经过第二发光光源后再经过第一基 板。

优选地,这对面板相互平行。

优选地,此组件有一个主发光方向,其中第一和第二面板中的至少一 个面板与主发光方向以一个小于90→的角度倾斜,使得第一空气通道形成 在第一和第二面板之间。

优选地,此组件还包括一个伸长臂,第一和第二面板中的每个面板的 一端被安装在其上,其中第一和第二面板中的至少一个面板与该臂以一个 大于0→的角度倾斜,使得第一空气通道形成在第一和第二面板之间。

优选地,第一和第二面板中的至少一个面板被枢轴旋转地安装到该臂, 使得在第一和第二面板中的所述一个面板和臂之间的角度是可以调整的。

优选地,所述角度是在3→到85→的范围内,更优选地是在4→到60→ 的范围内,并进一步优选地是在5→到30→的范围内。

优选地,此组件还包括第三面板,其有一个支撑第三发光光源的上表 面和一个相反的下表面,其中第一、第二和第三面板沿着一个伸长方向对 齐,且其中第二和第三面板中的至少一个面板与该伸长方向以一个大于 0→的角度倾斜,使得第一空气通道形成在第一和第二面板之间。

优选地,此组件还包括在第二和第三面板之间的另一个空气通道以允 许气流穿过而散发由发光光源产生的热。

优选地,所述角度是在3→到85→的范围内,更优选地是在4→到60→ 的范围内,并进一步优选地是在5→到30→的范围内。

优选地,此组件有一个主发光方向,其中第一和第二面板被安置使得 每个面板远离另一个面板上的光源发出的光辐射场。

优选地,面板是由导热材料制成。

优选地,第一和第二光源在第一主发光方向上发出光,组件还包括:

第三和第四发光光源,在第二主发光方向上发光;和

在第三和第四发光光源之间的第二空气通道,以允许气流穿过而散发 由发光光源产生的热。

优选地,第一和第二主发光方向互相相反。

优选地,组件还包括一个中央空气通道,与第一和第二空气通道液体 连接以允许气流穿过。

在另一个方面,本发明提供一个发光组件,包括:

两个相邻基板上,每个基板载有至少一个光源在其上面,所述基板各 自关于一个公共轴而倾斜并被间隔隔开,从而在其之间形成一个通风通道 以允许气流穿过,进而从光源散热。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于香港应用科技研究院有限公司,未经香港应用科技研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780046887.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top