[发明专利]电子照相用定影构件、生产其的方法、定影装置和电子照相图像形成设备

权利要求书

1.一种电子照相定影构件，其中将基板、固化硅橡胶层、固化硅橡胶粘合层和氟树脂层层压，其中红外线吸收强度比α(5)和红外线吸收强度比α(20)满足由下式表示的关系：

1.03≤α(5)/α(20)≤1.30

其中α(5)表示从距所述固化硅橡胶层的外表面5μm处取样的部分在1020cm^-1和1260cm^-1处的红外线吸收强度比(1020cm^-1/1260cm^-1)，α(20)表示从距所述固化硅橡胶层的外表面20μm处取样的部分在1020cm^-1和1260cm^-1处的红外线吸收强度比(1020cm^-1/1260cm^-1)，其中α(20)为0.8以上至1.2以下。

2.根据权利要求1所述的电子照相定影构件，其中所述固化硅橡胶层的厚度为100μm以上至500μm以下。

3.根据权利要求1所述的电子照相定影构件，其中所述电子照相定影构件的表面的C型显微硬度为60度以上至90度以下。

4.根据权利要求1所述的电子照相定影构件，其中所述固化硅橡胶层包括40体积％至60体积％量的填料。

5.一种定影设备，其包括：根据权利要求1所述的电子照相定影构件；和所述电子照相定影构件的加热单元。

6.电子照相定影构件的制造方法，其包括以下步骤：

(1)在基板上形成加成固化型硅橡胶层，

(2)固化所述加成固化型硅橡胶层，从而形成所述固化硅橡胶层；

(3)将在所述固化硅橡胶层表面上的氟树脂层与所述加成固化型硅橡胶粘合剂层压，和

(4)固化所述加成固化型硅橡胶粘合剂，

其中该方法进一步包括在所述步骤(3)之前用紫外线照射所述固化硅橡胶层表面的步骤；

其中，用紫外线照射的步骤包括用紫外线照射所述固化硅橡胶层表面，以使所述固化硅橡胶层满足以下关系：

1.03≤α(5)/α(20)≤1.30；

0.8≤α(20)≤1.2，

其中α(5)表示从距所述固化硅橡胶层的外表面5μm处取样的部分在1020cm^-1和1260cm^-1处的红外线吸收强度比(1020cm^-1/1260cm^-1)，α(20)表示从距所述固化硅橡胶层的外表面20μm处取样的部分在1020cm^-1和1260cm^-1处的红外线吸收强度比(1020cm^-1/1260cm^-1)。

7.根据权利要求6所述的电子照相定影构件的制造方法，其中所述加成固化型硅橡胶层包括具有不饱和脂肪族基团的聚有机硅氧烷和具有键合至硅的活性氢的聚有机硅氧烷，其中所述活性氢与所述不饱和脂肪族基团的数量比为0.3以上至0.8以下。

8.根据权利要求6所述的电子照相定影构件的制造方法，其中照射紫外线的步骤包括用紫外线照射以使在185nm波长处的紫外线的累积光量变为300mJ/cm²以上至1000mJ/cm²以下。