[发明专利]使稀釜馏物工艺流脱水的方法有效

专利信息
申请号: 200780046035.7 申请日: 2007-12-12
公开(公告)号: CN101594921A 公开(公告)日: 2009-12-02
发明(设计)人: 大卫·W·史切曼;安吉拉·S·科瓦尔斯基 申请(专利权)人: 纳尔科公司
主分类号: B01D21/01 分类号: B01D21/01
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 代理人: 杨淑媛;郑 霞
地址: 美国伊*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 使稀釜馏物 工艺 脱水 方法
【权利要求书】:

1.一种从干磨乙醇工艺流的稀釜馏物中去除悬浮固体、脂肪、油和润 滑脂的方法,所述方法包括:

(i)向干磨乙醇工艺流的所述稀釜馏物中添加50ppm到1000ppm的 一种或多种阴离子型聚合物以形成水与絮凝的固体的混合物,所述阴离子 型聚合物包括一种或多种阴离子单体,以及任选地一种或多种丙烯酰胺单 体,所述一种或多种阴离子单体选自丙烯酸钠盐、2-丙烯酰氨基-2-甲基-1- 丙磺酸钠盐和甲基丙烯酸钠盐,其中所述丙烯酰胺单体是衍生自丙烯酰胺 的电中性单体,选自由丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-甲基丙烯酰胺、N,N- 二甲基(甲基)丙烯酰胺、N-异丙基(甲基)丙烯酰胺、N-(2-羟丙基) 甲基丙烯酰胺和N-羟甲基丙烯酰胺组成的组;以及

(ii)使用固/液分离设备使水与所述絮凝的固体分离。

2.如权利要求1所述的方法,其中所述阴离子型聚合物选自由干聚合 物、乳液聚合物和分散聚合物组成的组。

3.如权利要求1所述的方法,其中所述阴离子型聚合物具有10mol %到100mol%的阴离子电荷。

4.如权利要求1所述的方法,其中所述阴离子型聚合物具有30mol %到50mol%的阴离子电荷。

5.如权利要求1所述的方法,其中所述阴离子型聚合物具有35mol %到45mol%的阴离子电荷。

6.如权利要求1所述的方法,其中所述丙烯酰胺单体是丙烯酰胺。

7.如权利要求1所述的方法,其中所述阴离子型聚合物进一步包括 0.005ppm到10ppm的一种或多种交联剂。

8.如权利要求7所述的方法,其中所述交联剂选自聚乙二醇(400) -二甲基丙烯酸酯或乙氧基化三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯。

9.如权利要求1所述的方法,其中所述阴离子型聚合物选自由丙烯酰 胺-丙烯酸钠盐共聚物和丙烯酰胺-2-丙烯酰氨基-2-甲基-1-丙磺酸钠盐共聚 物组成的组。

10.如权利要求1所述的方法,其中所述阴离子型聚合物是丙烯酰胺- 丙烯酸钠-甲基丙烯酸钠三元共聚物。

11.如权利要求10所述的方法,其中所述阴离子型聚合物具有1mol %到50mol%的阴离子电荷。

12.如权利要求1所述的方法,其中所述阴离子型聚合物选自由干聚 合物和乳液聚合物组成的组。

13.如权利要求1所述的方法,其进一步包括向所述干磨乙醇工艺流 的稀釜馏物中添加一种或多种阳离子凝结剂。

14.如权利要求13所述的方法,其中所述阳离子凝结剂选自聚(二烯 丙基二甲基氯化铵)和环氧氯丙烷-二甲胺。

15.如权利要求14所述的方法,其中在添加絮凝的阴离子型聚合物之 前添加所述凝结剂。

16.如权利要求1所述的方法,其进一步包括向所述干磨乙醇工艺流 的稀釜馏物中添加一种或多种微粒状沉降助剂。

17.如权利要求16所述的方法,其中所述微粒状沉降助剂选自膨润 土、蒙脱石、胶态二氧化硅、胶态硼硅酸盐和微砂。

18.如权利要求1所述的方法,其中干磨乙醇工艺流固体的稀釜馏物 是玉米釜馏物固体。

19.如权利要求1所述的方法,其中所述固/液分离设备是低剪切设备。

20.如权利要求19所述的方法,其中所述固/液分离设备是包括中心 室的沉降槽。

21.如权利要求20所述的方法,其中所述沉降槽进一步包括用于调节 所述中心室的深度的工具。

22.如权利要求21所述的方法,其中所述沉降室的固体质量平衡通过 调节流入物的流速来控制。

23.如权利要求21所述的方法,其中所述沉降室的固体质量平衡通过 调节从所述沉降室的底部去除固体的速率来控制。

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