[发明专利]IC芯片封装及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200780045677.5 申请日: 2007-11-30
公开(公告)号: CN101563774A 公开(公告)日: 2009-10-21
发明(设计)人: 久户濑智;中川智克;加藤达也 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: H01L23/29 分类号: H01L23/29;H01L23/31;H01L23/12
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 闫小龙;王忠忠
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: ic 芯片 封装 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种IC芯片封装,其中,IC芯片例如具备细间距(FinePitch)的端子。 

背景技术

随着液晶显示装置的高精细化、高性能化发展,就要求液晶显示装置中搭载的液晶驱动器(IC芯片)等具有更多的输出,并且要求进一步缩小芯片的尺寸。 

要想在缩小IC芯片尺寸的同时实现更多的输出,就需要实现芯片上的凸点的细间距(微细)化。最近,较多地采用可实现细间距化的、安装裸芯片液晶驱动器的SOF(System On Film:片上系统,也称为COF(Chip On Film:薄膜覆晶))。 

根据最近的SOF封装技术,通过加热加压将IC芯片上的凸点与载带上的内部引线(Inner Lead)键合在一起,由此实现载带和IC芯片之间的导通。但是,根据这样的键合方法,为了消除凸点位置和内部引线位置之间的偏差,需要使用热变形小、高精细的载带材料。即,上述技术的缺陷在于,所要实现的细间距限制了载带所能选用的材料范围。 

另外,内部引线由铜箔形成。在进行细间距的配线加工时需要对铜箔实施减薄处理。例如,如果要形成50μm间距,TCP铜箔的厚度为12μm,如果要实现20μm间距,铜箔的厚度就需要控制在5μm左右。为了形成具有较小厚度而又能保持适当强度的铜箔,需要重新研究目前所使用的技术并引入新技术和新的加工设备,这些措施都将导致成本的增加。 

此外,在进行配线加工时,如果加工设备的加工精度远高于配线间距,加工后进行简单检测即可。但是,如果配线间距为细间距并且加工精度和配线间距二者接近,那么,在加工后就需要进行充分检测以确认是否存在未经充分加工的部分,这将导致检测成本的增加。 

为了克服以上缺陷,专利文献1揭示了一种通过中介基板(InterposerSubstrate)连接IC芯片和电路基板(载带)的方法。图12表示了专利 文献1所述的封装结构的剖面图。 

如图12所示,以芯片倒装键合(Flip Chip Bonding)的方式连接IC芯片104和中介基板101,而且,中介基板101以凸点键合方式连接电路基板107的电极图案110。电路基板107形成有与IC芯片104的配置区域对应的器件孔(Device Hole)107A。 

中介基板101为硅(Si)基板,且通过硅晶圆工艺形成,所以,能够以与IC芯片104的电极相同的细间距来形成和IC芯片104连接的电极。另一方面,以与电路基板107的电极间距、即较大的间距相同的间距来形成和电路基板107连接的电极。并且,在连接IC芯片104的电极和连接电路基板107的电极中,对应的电极在中介基板101上彼此连接。另外,作为电路基板107,可以优选使用载带。 

电路基板107、IC芯片104和中介基板101的键合部分被密封树脂密封,其作用在于对键合部分进行保护使其不受外部环境的影响。 

即,根据图12所示的封装结构,IC芯片104与电路基板107之间的互连通过中介基板101来实现,这样,可以将IC工艺水平的细间距转换为载带工艺水平的电极间距。所以,即使是安装通过缩小IC芯片尺寸、增加输出等方法实现了连接电极的高度细间距化的IC芯片的SOF封装,也能够避免制造成本和检测成本的增加。 

专利文献1:日本国专利申请公开特开2004-207566号公报,公开日:2004年7月22日。 

发明内容

如上述专利文献1所示,IC芯片104和电路基板107通过中介基板101来实现互连,但是,这种结构存在这样的问题,即:由于要在电路基板107中设置器件孔107A,这将导致密封树脂对连接部的密封可靠性降低。 

即,根据现有技术中IC芯片和电路基板直接互连的SOF结构,如果采用密封树脂浇注法对IC芯片的周围进行描画填充,密封树脂就会在毛细管现象的作用下渗透到IC芯片与电路基板之间,从而可在内部不发生气泡等的条件下实现密封。 

另一方面,根据上述通过中介基板101实现IC芯片104和电路基板107之间互连的结构,在用密封树脂对IC芯片的周围进行描画填充 时,由于IC芯片104的外缘和器件孔107A的外缘之间形成堰状物,基于毛细管现象的树脂填充性能恶化,从而可能导致密封树脂难以充分渗透到IC芯片和电路基板之间。 

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