[发明专利]用于温室的控制设备无效
| 申请号: | 200780045250.5 | 申请日: | 2007-12-03 |
| 公开(公告)号: | CN101547597A | 公开(公告)日: | 2009-09-30 |
| 发明(设计)人: | H·-P·洛布尔;W·O·巴德;J·H·A·M·雅各布斯 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号: | A01G7/04 | 分类号: | A01G7/04;A01G9/20;A01G9/26 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 周红力;刘 红 |
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 温室 控制 设备 | ||
1.一种用于温室(15)的控制设备(10),其具有计算机控制元 件(20)、照明元件(30)和至少一个检测器元件(40),
其中,照明元件(30)和检测器元件(40)与计算机控制元件(20) 连接,
其中,照明元件(30)包括至少一个发射光(32)的发光装置(31),
其中,光(32)照射在温室(15)中生长的植物(70),
其特征在于,
检测器元件(40)测量温室(15)中的氧分压,以及
由发光装置(31)发射的光(32)的量可以由计算机控制元件(20) 根据所测量的氧分压来控制。
2.根据权利要求1的控制设备(10),其特征在于,
控制设备(10)包括至少一个第二检测器元件(45),用于测量 植物(70)的光合活性。
3.根据权利要求1或2的控制设备(10),其特征在于,
控制设备(10)包括至少一个第三检测器元件(46,46’),其 测量第三资源,具体地是基底或土壤的温度、空气(33)的温度、基 底或土壤的湿度、基底或土壤中肥料的浓度、空气(33)的湿度、二 氧化碳分压、进入或离开温室(15)的空气的量、外部阳光的通量、 外部阳光的光谱或光(32)的光谱。
4.根据任意前述权利要求的控制设备(10),其特征在于,
控制设备(10)包括至少一个供给元件,其中,供给元件向植物 (70)供给第二资源,其中,第二资源的量可以由计算机控制元件(20) 控制。
5.根据任意前述权利要求的控制设备(10),其特征在于,
发光装置(31)是LED、OLED、气体放电灯、高强度放电灯、 白炽灯、荧光灯或高压钠灯、或所列出的这些灯的组合。
6.根据任意前述权利要求的控制设备(10),其特征在于,
控制设备(10)包括至少一个遮蔽装置(50),其中,通过移动 遮蔽装置(50)可以控制照到温室内的阳光的水平;和/或水供给装 置(55),其中,水供给装置(55)灌溉植物(70)。
7.根据任意前述权利要求的控制设备(10),其特征在于,
控制设备(10)包括有线(62)或无线网络(60),所述有线或 无线网络与计算机控制元件(20)、检测器元件(40)、第二(45) 和第三检测器元件(46)以及所述装置(50,55)连接。
8.一种用于控制温室(15)中的植物(70)生长的方法,该方法 包括:
测量温室(15)内的氧分压(101),所述氧分压与温室(15) 中的植物(70)的光合活性相关,
将氧分压的值传输到计算机控制元件(20),
根据所测量的氧分压来确定植物(70)的最佳生长所需的光的最 优量(111),以及
将由发光元件(30)发射的光的实际量调整为最优量。
9.根据权利要求8的方法,其进一步包括:在不同的空间位置上 测量氧分压(101)并且计算空间平均值,或者在有限的区域内重复 测量氧分压(101)并且计算时间平均值,以及将值存储在数据库中。
10.根据权利要求8或9的方法,其进一步包括:将所计算的空 间或时间平均值与过去测量的值相比较,以及测量并平均空间的或时 间的第二资源和/或第三资源。
11.根据权利要求8到10的方法,其进一步包括:
在反馈回路中重复用于控制植物生长的方法,并且通过经用户接 口(25)的输入影响最优量的调整。
12.根据权利要求8到11的方法,
其中,确定(111)光的最优量由叶绿素吸收曲线影响,并依赖 于多个测量结果。
13.根据权利要求1到7的控制设备(10),其依照根据权利要求 8到12的方法来工作。
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