[发明专利]线栅型偏振片及其制造方法、和使用其的相位差膜及液晶显示元件无效
| 申请号: | 200780044893.8 | 申请日: | 2007-11-14 |
| 公开(公告)号: | CN101548206A | 公开(公告)日: | 2009-09-30 |
| 发明(设计)人: | 西村涼;须崎吾郎 | 申请(专利权)人: | 新日本石油株式会社 |
| 主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙 淳 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 线栅型 偏振 及其 制造 方法 使用 相位差 液晶显示 元件 | ||
1.一种线栅型偏振片的制造方法,其特征在于,包括以下工序:
制备树脂膜的工序,所述树脂膜形成有具有亚微米大小的光栅形状的凹部,并且可见光透射率为80%以上;
将导电性纳米材料填充于所述凹部的工序,所述导电性纳米材料的平均直径为所述凹部的平均线宽的1/2以下;以及
除去没有填充于所述凹部的导电性纳米材料的工序。
2.如权利要求1所述的线栅型偏振片的制造方法,其特征在于,
所述导电性纳米材料的复折射率中虚数部的绝对值大于0.1。
3.如权利要求1所述的线栅型偏振片的制造方法,其特征在于,
所述树脂膜形成有凹部,所述凹部具有光栅周期为400nm以下、线宽为200nm以下的光栅形状。
4.一种线栅型偏振片,其特征在于,具备:
树脂膜,所述树脂膜形成有具有亚微米大小的光栅形状的凹部,并且可见光透射率为80%以上;以及
填充于所述凹部的导电性纳米材料或其凝集体。
5.如权利要求4所述的线栅型偏振片,其特征在于,
所述导电性纳米材料的复折射率中虚数部的绝对值大于0.1。
6.如权利要求4所述的线栅型偏振片,其特征在于,
所述树脂膜形成有凹部,所述凹部具有光栅周期为400nm以下、线宽为200nm以下的光栅形状。
7.一种相位差膜,其特征在于,具备权利要求4所述的线栅型偏振片。
8.一种液晶显示元件,其特征在于,具备权利要求7所述的相位差膜。
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