[发明专利]低蚀刻性光刻胶清洗剂

权利要求书

1.一种低蚀刻性的光刻胶清洗剂，其特征在于含有：水、季铵氢氧化物， 烷基二醇芳基醚或其衍生物，和如式I所示的苯乙酮或其衍生物；

式I

其中，R₅和R₆为H、羟基、C₁～C₂的烷基、C₁～C₂的烷氧基或C₁～C₂的羟 烷基，其中：所述的烷基二醇芳基醚或其衍生物为乙二醇单苯基醚、丙二 醇单苯基醚、异丙二醇单苯基醚、二乙二醇单苯基醚、二丙二醇单苯基醚、 二异丙二醇单苯基醚、乙二醇单苄基醚、丙二醇单苄基醚、乙二醇二苯基 醚、丙二醇二苯基醚、异丙二醇二苯基醚、二乙二醇二苯基醚、二丙二醇 二苯基醚、二异丙二醇二苯基醚、乙二醇二苄基醚或丙二醇二苄基醚，其 中，所述的水的含量为小于或等于质量百分比20％。

2.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的季铵氢氧化物选自下 列中的一个或多个：四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化 铵、四丁基氢氧化铵、三甲基乙基氢氧化铵和三甲基苯基氢氧化铵。

3.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的季铵氢氧化物的含量 为质量百分比0.1～10％。

4.如权利要求3所述的清洗剂，其特征在于：所述的含量为质量百分比 0.1～5％。

5.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的烷基二醇芳基醚或其 衍生物的含量为质量百分比0.1～99.8％。

6.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的苯乙酮或其衍生物为 苯乙酮、对甲基苯乙酮、对羟基苯乙酮或对甲氧基苯乙酮。

7.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的苯乙酮或其衍生物的 含量为质量百分比0.1～95％。

8.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的清洗剂还含有共溶剂、 表面活性剂和缓蚀剂中的一种或几种。

9.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的水的含量为小于或等 于质量百分比10％。

10.如权利要求8所述的清洗剂，其特征在于：所述的共溶剂为醇、亚砜、 砜、酰胺、吡咯烷酮、咪唑烷酮、烷基二醇单烷基醚、烷基酮或环烷基 酮。

11.如权利要求8所述的清洗剂，其特征在于：所述的共溶剂的含量为小于 或等于质量百分比99.7％。

12.如权利要求10所述的清洗剂，其特征在于：所述的醇为丙醇、异丙醇、 丁醇或环己醇。

13.如权利要求10所述的清洗剂，其特征在于：所述的亚砜为二甲基亚砜、 二乙基亚砜或甲乙基亚砜。

14.如权利要求10所述的清洗剂，其特征在于：所述的砜为环丁砜。

15.如权利要求10所述的清洗剂，其特征在于：所述的酰胺为甲酰胺、乙酰 胺、N，N-二甲基甲酰胺或N，N-二甲基乙酰胺。

16.如权利要求10所述的清洗剂，其特征在于：所述的吡咯烷酮为2-吡咯烷 酮、N-甲基吡咯烷酮或N-乙基吡咯烷酮。

17.如权利要求10所述的清洗剂，其特征在于：所述的咪唑烷酮为2-咪唑烷 酮、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮或1，3-二乙基-2-咪唑烷酮。

18.如权利要求10所述的清洗剂，其特征在于：所述的烷基二醇单烷基醚为 乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙 二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、三乙二醇单甲醚、三乙二醇单乙醚、丙 二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二 醇单乙醚、二丙二醇单丁醚、三丙二醇单甲醚、三丙二醇单乙醚或三丙 二醇单丁醚。