[发明专利]从盘形物品的表面清除液体的装置和方法

权利要求书

1.一种用于从盘形物品的表面清除液体的装置，其包括：

旋转夹头，其用于保持和旋转一个单个盘形物品；

液体分配机构，其用于将液体分配至所述盘形物品上；

第一气体分配机构，其包括至少一个具有孔的喷嘴，用于将气体 吹至所述盘形物品上；

第二气体分配机构，其包括至少一个具有孔的喷嘴，用于将气体 吹至所述盘形物品上；

运动机构，其用于使所述液体分配机构和所述第二气体分配机构 运动越过所述盘形物品，从而使所述第二气体分配机构和所述液体分 配机构朝向边缘区域运动；和

用于控制通过与所述第二气体分配机构分开的所述第一气体分配 机构而被分配的气体流的机构，

其中，所述第一气体分配机构的孔的横剖面积的总和小于所述第 二气体分配机构的孔的横剖面积的总和；并且

其中，所述装置还包括冲洗喷嘴，所述冲洗喷嘴用于分配冲洗液 体到所述盘形物品上。

2.如权利要求1所述的装置，其中，用于使所述液体分配机构和 所述第二气体分配机构运动越过所述盘形物品的所述运动机构被构造 成使得所述第二气体分配机构跟随着所述液体分配机构。

3.如权利要求1所述的装置，其中，所述运动机构还包括用于使 所述第一气体分配机构运动越过所述盘形物品的机构，使得所述第一 气体分配机构跟随所述液体分配机构。

4.如权利要求1所述的装置，其中，所述第一气体分配机构和所 述第二气体分配机构的孔的横剖面积总和的比为1∶1.1到1∶20。

5.如权利要求1所述的装置，其中，所述第一气体分配机构的横 剖面积总和小于20mm²。

6.如权利要求1所述的装置，其中，所述第二气体分配机构的横 剖面积总和大于5mm²。

7.如权利要求1所述的装置，其中，所述第二气体分配机构包括 狭缝形喷嘴，所述狭缝相对于旋转运动的半径垂直地设置，由此所述 第二气体分配机构分配气幕。

8.如权利要求1所述的装置，其中，所述第二气体分配机构包括 一排喷嘴，这些喷嘴被设置在直的线上，所述直的线垂直于所述第二 气体分配机构的运动方向，由此这些喷嘴分配气幕。

9.如权利要求1所述的装置，其中，所述第二气体分配机构和所 述液体分配机构相互固定，且所述第二气体分配机构与所述液体分配 机构之间具有距离d2。

10.如权利要求9所述的装置，其中，所述第一气体分配机构、 所述第二气体分配机构和所述液体分配机构相互固定，且所述第一气 体分配机构与所述液体分配机构之间具有距离d1。

11.如权利要求10所述的装置，其中，所述距离d2与所述距离 d1的差(d2-d1)在-1cm到+1cm之间。

12.一种用于将液体从盘形物品的表面清除的方法，所述方法包 括以下步骤：

围绕垂直于所述盘形物品的主表面的轴线旋转所述盘形物品；

当所述盘形物品被旋转时，将液体供应至所述盘形物品上，其中， 所述液体从供液口供应，所述供液口朝向所述盘形物品的边缘运动越 过基片；

通过第一供气口将第一气流供应到所述盘形物品至一区域，其中， 所述区域的中心到旋转运动中心的距离不超过20mm，其中，当供应 第一气体时，第一气体被供应到的区域被液体层覆盖，并且由此在不 连续的区域打开所述液体层；以及

当所述盘形物品旋转时，通过第二供气口将第二气流供应至所述 盘形物品上，其中，所述第二气流从所述第二供气口供应，所述第二 供气口朝向基片的边缘运动越过所述基片，其中，当供应所述第二气 流和所述液体时，第二供气口到所述旋转运动中心的距离小于所述供 液口到所述旋转运动中心的距离。

13.如权利要求12所述的方法，其中，在第一气流已经开始后， 开始供应第二气流。