[发明专利]通过从等离子体沉积而形成膜的方法

权利要求书

1.从等离子体向衬底上沉积无定形或微晶材料的膜的方法，其中以不连续微波脉冲的序列将微波能量引入腔室中，以不连续气体脉冲的序列将膜前体气体引入腔室中，且至少在每个微波脉冲期间，将用于产生原子氢的气体供入腔室中，每个微波脉冲以非重叠形式跟随有前体气体脉冲，且每个前体气体脉冲之后是其间既没有微波脉冲又没有前体气体脉冲的时段。

2.根据权利要求1的方法，其中每个前体气体脉冲与先前的微波脉冲在时间上是相邻的。

3.根据权利要求1或2的方法，其中用于产生原子氢的气体是分子氢。

4.根据权利要求1或2的方法，其中膜材料是无定形硅。

5.根据权利要求1或2的方法，其中膜材料是微晶硅。

6.根据权利要求1或2的方法，其中膜材料是硅和其它元素的合金，且其中用于产生原子氢的气体是包含氢和所述其它元素的化合物。

7.根据权利要求1或2的方法，其中对衬底施加偏置电压以辅助沉积。

8.根据权利要求7的方法，其中连续施加所述偏置电压。

9.根据权利要求7的方法，其中使所述偏置电压脉冲化。

10.根据权利要求1或2的方法，其中使用于产生原子氢的气体输入脉冲化。

11.根据权利要求1或2的方法，其中通过分布式电子回旋共振产生等离子体。