[发明专利]中微孔二氧化硅颗粒有效
| 申请号: | 200780040531.1 | 申请日: | 2007-10-15 |
| 公开(公告)号: | CN101528603A | 公开(公告)日: | 2009-09-09 |
| 发明(设计)人: | 矢野聪宏;泽田拓也 | 申请(专利权)人: | 花王株式会社 |
| 主分类号: | C01B37/02 | 分类号: | C01B37/02;C01B33/18 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙 淳;邸万杰 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 微孔 二氧化硅 颗粒 | ||
1.一种中空二氧化硅颗粒,其特征在于:
外壳部具有平均微孔径1~10nm的中微孔结构,并且外壳部的平 均厚度为30~700nm,该中空二氧化硅颗粒的平均粒径为0.05~10μm, 所有颗粒中的80%以上具有平均粒径±30%以内的粒径。
2.如权利要求1所述的中空二氧化硅颗粒,其特征在于:
BET比表面积为800m2/g以上。
3.如权利要求1或2所述的中空二氧化硅颗粒,其特征在于:
在粉末X射线衍射图谱中,在与d=2~12nm这一范围相当的衍 射角具有一个以上的峰。
4.如权利要求1或2所述的中空二氧化硅颗粒,其特征在于:外 壳部由通式(4)~(7)所示的硅化合物构成,
R3SiY3 (4)
R32SiY2 (5)
R33SiY (6)
Y3Si-R4-SiY3 (7)
式中,R3各自独立地表示碳原子与硅原子直接结合的有机基;R4表示具有1~4个碳原子的烃基或亚苯基;Y表示通过水解成为羟基的 一价的水解性基。
5.如权利要求3所述的中空二氧化硅颗粒,其特征在于:外壳部 由通式(4)~(7)所示的硅化合物构成,
R3SiY3 (4)
R32SiY2 (5)
R33SiY (6)
Y3Si-R4-SiY3 (7)
式中,R3各自独立地表示碳原子与硅原子直接结合的有机基;R4 表示具有1~4个碳原子的烃基或亚苯基;Y表示通过水解成为羟基的 一价的水解性基。
6.一种复合二氧化硅颗粒,其特征在于:
其为外壳部具有平均微孔径1~10nm的中微孔结构、外壳部的平 均厚度为30~700nm且BET比表面积为100m2/g以上的二氧化硅颗 粒,该二氧化硅颗粒的内部包含疏水性有机化合物或高分子有机化合 物。
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