[发明专利]中微孔二氧化硅颗粒有效

专利信息
申请号: 200780040531.1 申请日: 2007-10-15
公开(公告)号: CN101528603A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: 矢野聪宏;泽田拓也 申请(专利权)人: 花王株式会社
主分类号: C01B37/02 分类号: C01B37/02;C01B33/18
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 代理人: 龙 淳;邸万杰
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 微孔 二氧化硅 颗粒
【权利要求书】:

1.一种中空二氧化硅颗粒,其特征在于:

外壳部具有平均微孔径1~10nm的中微孔结构,并且外壳部的平 均厚度为30~700nm,该中空二氧化硅颗粒的平均粒径为0.05~10μm, 所有颗粒中的80%以上具有平均粒径±30%以内的粒径。

2.如权利要求1所述的中空二氧化硅颗粒,其特征在于:

BET比表面积为800m2/g以上。

3.如权利要求1或2所述的中空二氧化硅颗粒,其特征在于:

在粉末X射线衍射图谱中,在与d=2~12nm这一范围相当的衍 射角具有一个以上的峰。

4.如权利要求1或2所述的中空二氧化硅颗粒,其特征在于:外 壳部由通式(4)~(7)所示的硅化合物构成,

R3SiY3              (4)

R32SiY2             (5)

R33SiY              (6)

Y3Si-R4-SiY3        (7)

式中,R3各自独立地表示碳原子与硅原子直接结合的有机基;R4表示具有1~4个碳原子的烃基或亚苯基;Y表示通过水解成为羟基的 一价的水解性基。

5.如权利要求3所述的中空二氧化硅颗粒,其特征在于:外壳部 由通式(4)~(7)所示的硅化合物构成,

R3SiY3              (4)

R32SiY2             (5)

R33SiY              (6)

Y3Si-R4-SiY3        (7)

式中,R3各自独立地表示碳原子与硅原子直接结合的有机基;R4 表示具有1~4个碳原子的烃基或亚苯基;Y表示通过水解成为羟基的 一价的水解性基。

6.一种复合二氧化硅颗粒,其特征在于:

其为外壳部具有平均微孔径1~10nm的中微孔结构、外壳部的平 均厚度为30~700nm且BET比表面积为100m2/g以上的二氧化硅颗 粒,该二氧化硅颗粒的内部包含疏水性有机化合物或高分子有机化合 物。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于花王株式会社,未经花王株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780040531.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top