[发明专利]用于硅表面和层的含颗粒的蚀刻糊

权利要求书

1.呈蚀刻糊形式的用于蚀刻硅表面和层的可印刷、可点胶的碱性 蚀刻介质，其包含

a)至少一种碱性蚀刻组分，

b)至少一种溶剂，

c)熔点＞80℃且＜200℃的具有10nm-30μm的相对粒径的有机颗 粒，所述相对粒径如说明书第13页第4段至第14页第1段中所述测 量，

其中所述蚀刻介质在高于150℃，但是低于200℃的温度下是有 效的，并且在所述温度下所述颗粒熔融。

2.根据权利要求1的蚀刻介质，其特征在于所述蚀刻介质的组分 c)中另外包含无机颗粒。

3.根据权利要求1的蚀刻介质，其特征在于所述蚀刻介质另外包 含d)增稠剂。

4.根据权利要求1的蚀刻介质，其特征在于所述蚀刻介质另外包 含e)添加剂。

5.根据权利要求4的蚀刻介质，其特征在于所述添加剂是消泡 剂、触变剂、流动控制剂、脱气剂和粘合促进剂。

6.根据权利要求1-5中任一项的蚀刻介质，其特征在于所述蚀刻 介质基于总量按2-50wt％的浓度包含作为蚀刻组分的有机碱或无机 碱。

7.根据权利要求6的蚀刻介质，其特征在于所述蚀刻介质基于总 量按5-48wt％的浓度包含作为蚀刻组分的有机碱或无机碱。

8.根据权利要求1-5、7中任一项的蚀刻介质，其特征在于所述 蚀刻介质包含选自氢氧化钠、氢氧化钾、氨、乙醇胺、乙二胺和氢氧 化四烷基铵、或者混合物乙二胺/邻苯二酚和乙醇胺/没食子酸之一的 至少一种蚀刻组分。

9.根据权利要求6的蚀刻介质，其特征在于所述蚀刻介质包含选 自氢氧化钠、氢氧化钾、氨、乙醇胺、乙二胺和氢氧化四烷基铵、或 者混合物乙二胺/邻苯二酚和乙醇胺/没食子酸之一的至少一种蚀刻组 分。

10.根据权利要求1-5、7、9中任一项的蚀刻介质，其特征在于 所述蚀刻介质包含选自氢氧化钠和氢氧化钾的至少一种蚀刻组分。

11.根据权利要求6的蚀刻介质，其特征在于所述蚀刻介质包含 选自氢氧化钠和氢氧化钾的至少一种蚀刻组分。

12.根据权利要求8的蚀刻介质，其特征在于所述蚀刻介质包含 选自氢氧化钠和氢氧化钾的至少一种蚀刻组分。

13.根据权利要求1-5、7、9、11、12中任一项的蚀刻介质，其 特征在于所述蚀刻介质包含具有1-10μm的相对粒径的有机颗粒。

14.根据权利要求6的蚀刻介质，其特征在于所述蚀刻介质包含 具有1-10μm的相对粒径的有机颗粒。

15.根据权利要求8的蚀刻介质，其特征在于所述蚀刻介质包含 具有1-10μm的相对粒径的有机颗粒。

16.根据权利要求10的蚀刻介质，其特征在于所述蚀刻介质包含 具有1-10μm的相对粒径的有机颗粒。

17.根据权利要求1-5、7、9、11、12、14-16中任一项的蚀刻介 质，其特征在于所述蚀刻介质，基于介质的总量，按10-90wt％的量包 含至少一种溶剂，该溶剂选自下组：水、异丙醇、二甘醇、二丙二醇、 聚乙二醇、1，2-丙二醇、1，4-丁二醇、1，3-丁二醇、甘油、1，5-戊二 醇、2-乙基-1-己醇或它们的混合物，或选自下组：苯乙酮、甲基-2- 己酮、2-辛酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、1-甲基-2-吡咯烷酮、乙二醇 单丁醚、乙二醇单甲醚、三甘醇单甲醚、二甘醇单丁醚、二丙二醇单 甲醚、羧酸酯、碳酸亚丙酯，或第二组溶剂的混合物，或同时包含来 自第一组以及第二组的溶剂的混合物。