[发明专利]用于控制冷冻干燥处理的方法和系统有效
| 申请号: | 200780039415.8 | 申请日: | 2007-09-19 |
| 公开(公告)号: | CN101529189A | 公开(公告)日: | 2009-09-09 |
| 发明(设计)人: | S·维拉迪;A·巴雷斯 | 申请(专利权)人: | 泰事达技术有限公司 |
| 主分类号: | F26B5/06 | 分类号: | F26B5/06 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 屠长存 |
| 地址: | 西班牙*** | 国省代码: | 西班牙;ES |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 控制 冷冻 干燥 处理 方法 系统 | ||
1.用于监控和/或控制冷冻干燥设备(100)中的冷冻干燥处理的方法,所述冷冻干燥装置设置有干燥室(101),所述干燥室具有温控架装置(104),所述温控架装置用于支撑将被干燥的产品(30)的容器(50),所述干燥室(101)通过设有隔离阀(111)的管道连接至冷凝室(102),所述方法在所述冷冻干燥处理的主干燥阶段包括以下步骤:
-通过关闭所述干燥室(101)的所述隔离阀(111)将所述干燥室(101)与所述冷凝室(102)隔离,并在限定的压力采集时间(tf)期间检测和采集在所述干燥室(101)内的压力值(Pc,mes)和所述温控架装置(104)的架温度(Tshelf)(步骤1);
-计算产品(30)的产品温度(T)和多个与处理/产品相关的参数(Ti0,Rp,Kv,Lfrozen,TB)(步骤2),所述计算包括计算:
-产品(30)的升华界面处的产品温度(Ti0);
-产品(30)的干燥部分中的质量传递阻力(RP);
-在所述压力采集时间(tf)期间在轴坐标(z)处和时间(t)处的产品温度T=T(z,t);
-所述温控架装置(104)和所述容器(50)之间的热传递系数(Kv);
-产品(30)的冷冻部分的厚度(Lfrozen);
-所述干燥室(101)内的质量流;
-剩余的主干燥时间;
-使用所计算出的产品温度(T)和所计算出的与处理/产品相关的参数(Ti0,Rp,Kv,Lfrozen,TB)来计算新的架温度(T’shelf),并根据所述新的架温度(T’shelf)来调节所述温控架装置(104)的温度;
其特征在于,所述计算所述产品温度(T)和所述多个与处理/产品相关的参数(Ti0,Rp,Kv,Lfrozen,TB)是通过估计算法来实现的,其实现了用于所述干燥室(101)内的质量传递和用于所述产品(30)内的热传递的非稳态模型,并且包括以下方程式:
其中t>t0,0<z<Lfrozen(方程式1)
pc=pw+pin=pw+Fleak·t+pin0其中t≥0(方程式8)
pw|t=0=pc0-pin0 I.C.:t=0(方程式9)
其中,T=T(z,t),Ti=T(t)|z=0,TB=T(t)|z=L,Ti0=T|z=0,t=0;
并且,所述方程式中的参数如下:
A 容器的内截面[m2]
Cp 常压下的比热[J kg-1k-1]
Fleak 泄露率[Pa s-1]
k 热传导率[Jms-1 k]
Kv 整体热传递系数[J m-2 s-1k]
L 产品总厚度[m]
Lfrozen冷冻层厚度[m]
M 分子量[kmol kg-1]
Nv 容器的数量
p 压力[Pa]
R 理想气体常数[J kmol-1K]
Rp 干燥层内的质量传递阻力[m-1s]
T 温度[K]
t 时间[s]
TB z=L[K]处的冷冻层温度
V 体积[m3]
z 轴坐标[m]
ρ 质量密度[kg m-3]
ΔHs 升华焓[J kg-1]
方程式中的上标和下标如下:
0 在z=0处的值
frozen 冷冻层
c 室
i 界面
in 惰性气体
mes 测量的
shelf 加热架
w 水蒸气
[t0,tf]是步骤1的时间间隔;
I.C.是初始条件,B.C.是边界条件。
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