[发明专利]用于控制冷冻干燥处理的方法和系统有效

专利信息
申请号: 200780039415.8 申请日: 2007-09-19
公开(公告)号: CN101529189A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: S·维拉迪;A·巴雷斯 申请(专利权)人: 泰事达技术有限公司
主分类号: F26B5/06 分类号: F26B5/06
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 屠长存
地址: 西班牙*** 国省代码: 西班牙;ES
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摘要:
搜索关键词: 用于 控制 冷冻 干燥 处理 方法 系统
【权利要求书】:

1.用于监控和/或控制冷冻干燥设备(100)中的冷冻干燥处理的方法,所述冷冻干燥装置设置有干燥室(101),所述干燥室具有温控架装置(104),所述温控架装置用于支撑将被干燥的产品(30)的容器(50),所述干燥室(101)通过设有隔离阀(111)的管道连接至冷凝室(102),所述方法在所述冷冻干燥处理的主干燥阶段包括以下步骤:

-通过关闭所述干燥室(101)的所述隔离阀(111)将所述干燥室(101)与所述冷凝室(102)隔离,并在限定的压力采集时间(tf)期间检测和采集在所述干燥室(101)内的压力值(Pc,mes)和所述温控架装置(104)的架温度(Tshelf)(步骤1);

-计算产品(30)的产品温度(T)和多个与处理/产品相关的参数(Ti0,Rp,Kv,Lfrozen,TB)(步骤2),所述计算包括计算:

-产品(30)的升华界面处的产品温度(Ti0);

-产品(30)的干燥部分中的质量传递阻力(RP);

-在所述压力采集时间(tf)期间在轴坐标(z)处和时间(t)处的产品温度T=T(z,t);

-所述温控架装置(104)和所述容器(50)之间的热传递系数(Kv);

-产品(30)的冷冻部分的厚度(Lfrozen);

-所述干燥室(101)内的质量流;

-剩余的主干燥时间;

-使用所计算出的产品温度(T)和所计算出的与处理/产品相关的参数(Ti0,Rp,Kv,Lfrozen,TB)来计算新的架温度(T’shelf),并根据所述新的架温度(T’shelf)来调节所述温控架装置(104)的温度;

其特征在于,所述计算所述产品温度(T)和所述多个与处理/产品相关的参数(Ti0,Rp,Kv,Lfrozen,TB)是通过估计算法来实现的,其实现了用于所述干燥室(101)内的质量传递和用于所述产品(30)内的热传递的非稳态模型,并且包括以下方程式:

其中t>t0,0<z<Lfrozen(方程式1)

T|t=0=Ti0+zkfrozenΔHsRP(p(Ti0)-pw0)I.C.:t=0,0<z<Lfrozen]]>(方程式2)

kfrozenTz|z=0=ΔHsRP(p(Ti)-pw)B.C.1:t0,z=0]]>(方程式3)

kfrozenTz|z=L=Kv(Tplate-TB)B.C.2:t0,z=Lfrozen]]>(方程式4)

Kv=[Tplate-Ti0ΔHsRP(p(Ti0)-pw0)+Lfrozenkice]-1]]>(方程式5)

TB0=Ti0+LfrozenkfrozenΔHsRP(p(Ti0)-pw0)]]>(方程式6)

dpwdt=NvAVcRTiMw1RP(pi(Ti)-pw)]]>其中t>0(方程式7)

pc=pw+pin=pw+Fleak·t+pin0其中t≥0(方程式8)

pw|t=0=pc0-pin0         I.C.:t=0(方程式9)

efrozenALfrozenmb+edriedA(L-Lfrozen,n)=]]>

efrozenALfrozen,n-1-KvAΔHs(Tplate-TBO)·Δtn-1]]>(方程式10)

其中,T=T(z,t),Ti=T(t)|z=0,TB=T(t)|z=L,Ti0=T|z=0,t=0

并且,所述方程式中的参数如下:

A      容器的内截面[m2]

Cp     常压下的比热[J kg-1k-1]

Fleak  泄露率[Pa s-1]

k      热传导率[Jms-1 k]

Kv     整体热传递系数[J m-2 s-1k]

L      产品总厚度[m]

Lfrozen冷冻层厚度[m]

M      分子量[kmol kg-1]

Nv     容器的数量

p      压力[Pa]

R      理想气体常数[J kmol-1K]

Rp     干燥层内的质量传递阻力[m-1s]

T      温度[K]

t      时间[s]

TB     z=L[K]处的冷冻层温度

V      体积[m3]

z      轴坐标[m]

ρ     质量密度[kg m-3]

ΔHs   升华焓[J kg-1]

方程式中的上标和下标如下:

0      在z=0处的值

frozen 冷冻层

c      室

i      界面

in     惰性气体

mes    测量的

shelf  加热架

w      水蒸气

[t0,tf]是步骤1的时间间隔;

I.C.是初始条件,B.C.是边界条件。

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