[发明专利]利用具有改良的光学访问的双区域气体注射器来访问工艺室的方法和设备

权利要求书

1.一种用于工艺室的气体注射器，该工艺室配有光学访问窗口， 该光学访问窗口允许光线进出该工艺室，该注射器包含：

轴套，其配置为容纳于气体注射器的罩的中空本体中并 且配有限定气体和光学访问路径的内腔，该内腔配有访问区 域，该访问区域被配置为流通工艺气体并传送具有想要的信噪 比SNR的光学访问信号；及

容纳于该内腔的隔膜，其被进一步配置为将该内腔的该 访问区域分割为至少两个独立的通孔，所述至少两个独立的通 孔平行于指向所述光学访问窗口的光学路径地延伸，该至少两 个独立的通孔中的每一个都被配置为与其他通孔协作，以流通 该工艺气体并将该具有想要的SNR的光学访问信号通过该光 学访问窗口进行传送。

2.根据权利要求1所述的气体注射器，其中该至少两个独立的通 孔中的该每一个都被配置为降低等离子体在各该独立的通孔 中形成的可能性。

3.根据权利要求1所述的气体注射器，其中该轴套和该隔膜的该 配置定义每个通孔的壁，以促进在各自的通孔中朝着该光学访 问窗口运动的微粒在其到达该光学访问窗口之前对该壁的粘 着性。

4.根据权利要求1所述的气体注射器，其中：

该光学访问信号指示基板的状态；及

该至少两个独立的通孔由该隔膜配置为共同地允许指示 该基板的该状态的该光学信号的传送，该传送从该工艺室经过 各该至少两个独立通孔，并经过该光学访问窗口到达该室之外 的位置。

5.根据权利要求1所述的气体注射器，其中该至少两个独立通孔 中的每一个都是至少三个独立的通孔。

6.一种同时将光学信号沿着光学路径从工艺室经过光学访问窗 口传送到该工艺室外的诊断末端点，并将第一工艺气体注射入 该工艺室的气体注射器；该气体注射器包含：

配置为接收该工艺气体的罩，其进一步配有中空本体， 该中空本体环绕该光学路径并将该光学访问窗口装设到该诊 断末端点附近；

轴套，被配置为容纳于该中空本体以定义内腔，该内腔 环绕该光学路径并配有光学访问区域以同时将该工艺气体注 射入该工艺室并允许从该工艺室经过该光学访问窗口的光学 信号的光学访问，该光学信号具有至少一最小信噪比SNR； 及

配置为容纳于该气体内腔的隔膜，其被进一步配置为将 该光学访问区域分割为多个光学信号孔，该光学信号孔中的每 一个都被配置成流通该工艺气体并将具有至少该最小SNR的 该光学信号通过该光学访问窗口进行传送。

7.根据权利要求6所述的气体注射器，其中该隔膜被配置为降低 等离子体在各该光学信号孔内形成的可能性并提供壁，以收集 在该光学路径内朝着该光学访问窗口运动的微粒，该隔膜的配 置减少了微粒在该光学访问窗口的沉积以及对该光学访问窗 口的刻蚀。

8.根据权利要求7所述的气体注射器，其中该隔膜被进一步配置 为可以从该内腔移除，从而允许移除该隔膜上的沉积的微粒并 将该隔膜重置入该内腔。

9.根据权利要求7所述的气体注射器，其中该隔膜为每个光学信 号孔提供小于内腔的横断面面积，以便于降低等离子体在各该 光学信号孔中形成的可能性，并为该光学信号孔提供大于内腔 的总表面积，以便于减少该微粒在该光学访问窗口上的沉积。

10.根据权利要求6所述的气体注射器，其中该隔膜横跨该内腔的 直径延伸，从而该多个光学信号孔为两个光学信号孔。

11.根据权利要求6所述的气体注射器，其中该隔膜配有十字形， 该十字形包含各自横跨该内腔直径的交叉片，从而该多个光学 信号孔为四个光学信号孔。

12.根据权利要求6所述的气体注射器，其中该隔膜配有多个管 道，从而该多个光学信号孔多于四个光学信号孔。