[发明专利]抗反射涂料组合物

权利要求书

1.用于光致抗蚀剂的旋涂施加型抗反射涂料组合物，其包含聚合 物、交联化合物和热致酸生成剂，其中该聚合物包含至少一种能将抗反 射涂料组合物在光致抗蚀剂成像用的曝光辐射下的折光指数提高至等 于或大于1.8的值的官能结构部分和至少一种能吸收光致抗蚀剂成像用 的曝光辐射的官能结构部分，其中能提高折光指数的官能结构部分选自 -(S)_n-，其中n是整数并且n为2-4，并且其中能够吸收曝光辐射的官 能结构部分选自含有如下结构的化合物：烃芳环、取代和未取代苯基、 取代和未取代蒽基、取代和未取代菲基、取代和未取代萘基、取代和未 取代的含选自氧、氮、硫的杂原子的杂环芳环，或其组合，其中所述“取 代”是指被烷基、烷氧基、酰基或芳基取代。

2.权利要求1的抗反射涂料组合物，其中所述能够吸收曝光辐射 的官能结构部分选自苯基、苄基、羟基苯基、4-甲氧基苯基、4-乙酰氧 基苯基、叔丁氧基苯基、叔丁基苯基、烷基苯基、氯甲基苯基、溴甲基 苯基、9-蒽亚甲基、9-蒽亚乙基。

3.权利要求1的抗反射涂料组合物，其中所述聚合物还包含能将 该聚合物在热致生成的酸存在下采用所述交联化合物交联的官能团， 其中该官能团选自酚类、环氧基、羟基、羧酸、异氰酸酯。

4.权利要求1的抗反射涂料组合物，其中折光指数为1.8至2.5。

5.权利要求4的抗反射涂料组合物，其中折光指数为1.85至2.3。

6.权利要求4的组合物，其中折光指数为1.9至2.1。

7.权利要求1-6中任一项的抗反射涂料组合物，其中该组合物具 有0.1至0.3的吸收消光系数，即k值。

8.权利要求1至6任一项的抗反射涂料组合物，其中该聚合物进 一步包含硅结构部分。

9.权利要求8的抗反射涂料组合物，其中所述硅结构部分是硅氧 烷结构部分。

10.权利要求1至6任一项的抗反射涂料组合物，进一步包含交联 剂。

11.权利要求10的抗反射涂料组合物，其中交联剂选自三聚氰胺、 羟甲基化物、甘脲、聚合甘脲、羟烷基酰胺、环氧树脂和环氧胺树脂、 封端异氰酸酯和二乙烯基单体。

12.权利要求10的抗反射涂料组合物，其中酸生成剂选自碘盐、 甲苯磺酸盐、苯磺酸盐衍生物和萘磺酸盐衍生物。

13.成像的方法，包括

a)用权利要求1至12任一项的抗反射涂料组合物涂覆衬底并烘 烤；

b)在抗反射涂层之上涂覆光致抗蚀剂薄膜并烘烤；

c)成像式曝光所述光致抗蚀剂；

d)显影所述光致抗蚀剂中的图像；

e)任选地，在曝光步骤后烘烤衬底。

14.权利要求13的方法，其中成像式曝光使用浸没式光刻。

15.权利要求14的方法，其中浸没式光刻中透镜的数值孔径大于 1.2。

16.权利要求13的方法，其中该光致抗蚀剂在13.5纳米至250纳米 波长下成像式曝光。

17.权利要求13的方法，其中该光致抗蚀剂包含聚合物和光活性化 合物。