[发明专利]用于非水性电解质的含氰基的添加剂以及使用该添加剂的电化学装置

权利要求书

1.一种非水性电解质，包括：

电解质盐；

有机溶剂；和

用于非水性电解质的添加剂，

其中所述用于非水性电解质的添加剂为下式1所示的化合物， 它具有双键和至少两个氰基，其中所述的两个氰基相对于所述双键 成反式构象：

[式1]

其中每一个R¹和R³各自独立地表示C₁～C₁₂亚烷基、C₁～C₁₂卤 代亚烷基、C₂～C₁₂亚烯基、C₂～C₁₂亚炔基、C₇～C₁₈亚苯甲基或C₇～ C₁₈卤代亚苯甲基；

每一个R²和R⁴各自独立地表示氢原子、C₁～C₁₂烷基、C₁～C₁₂卤代烷基、C₂～C₁₂烯基、C₁～C₁₂烷氧基、C₃～C₁₈芳基、C₃～C₁₈卤代 芳基、C₇～C₁₈苯甲基、C7～C₁₈卤代苯甲基、卤原子或者氰基基团 (-CN)；并且

每一个m和n各自独立地为0或1。

2.根据权利要求1的非水性电解质，其中所述添加剂在所述非水性电解 质中的用量为0.01～10wt％。

3.根据权利要求1的非水性电解质，其中所述添加剂被吸附至使用该添 加剂的电化学装置中的阴极表面的键合位点或活性位点上，从而抑 制该非水性电解质的氧化分解，或者与阴极中溶出的金属离子形成 络合物，由此防止金属离子电沉积在阳极上。

4.根据权利要求1的非水性电解质，其中所述电解质盐由下述组合构 成：(i)选自Li⁺、Na⁺和K⁺的阳离子；和(ii)选自PF₆^-、BF₄^-、Cl^-、 Br^-、I^-、ClO₄^-、AsF₆^-、CH₃CO₂^-、CF₃SO₃^-、N(CF₃SO₂)₂^-和C(CF₂SO₂)₃^- 的阴离子。

5.根据权利要求1的非水性电解质，其中所述有机溶剂为选自下述的至 少一种：内酯类、醚类、酯类、亚砜类、乙腈类、内酰胺类、酮类， 以及它们的卤代衍生物。

6.根据权利要求1的非水性电解质，其中所述有机溶剂为选自下述的至 少一种溶剂：环状碳酸酯类、线性碳酸酯类，以及它们的卤代衍生 物。