[发明专利]对有机基材的光降解有改进的防止作用的稳定剂组合物

权利要求书

1.包括作为组分(A)和组分(B)的两种UV吸收剂的组合物(C)， 组分(A)是式(I)的一种或多种化合物；

和

组分(B)是选自下列的一种或多种化合物：

式(II)化合物，

式(V)的化合物，

和

式(VI)的化合物；

其中

R是C_1-18烷基或C_1-18环烷基；

R’选自H，C_1-18烷基或C_3-12环烷基，C_6-10芳基，F，Cl，Br，CN，OH， O-C_1-18烷基，O-C_3-12环烷基，O-C_6-10芳基和具有1、2或3个选自 O、N和S的杂原子的C_3-10杂芳基；

R1-R8和R18-R24彼此独立地选自H，OH，F，Cl，Br，S-C_1-12烷基 和S-C_3-12环烷基，C_1-18烷基，C_3-12环烷基，C_6-10芳基，具有1、2 或3个选自O、N或S的杂原子的C_3-10杂芳基；

C(O)O-C_6-10芳基，具有1、2或3个选自O、N或S的杂原子的 C(O)O-C_3-10杂芳基；

O-C_1-18烷基，O-C_3-12环烷基，O-C_6-10芳基，具有1、2或3个选自 O、N或S的杂原子的O-C_3-10杂芳基。

2.根据权利要求1的组合物(C)，其中

R是乙基和

R’是H。

3.根据权利要求1或2的组合物(C)，包括作为组分(A)和组分(B) 的两种UV吸收剂，

组分(A)是式(I)的一种或多种化合物，和

组分(B)是式(II)的一种或多种化合物。

4.根据权利要求1或2的组合物(C)，包括作为组分(A)和组分(B) 的两种UV吸收剂，

组分(A)是式(I)的一种或多种化合物，和

组分(B)是式(V)的一种或多种化合物。

5.根据权利要求1或2的组合物(C)，包括作为组分(A)和组分(B) 的两种UV吸收剂，

组分(A)是式(I)的一种或多种化合物，和

组分(B)是式(VI)的一种或多种化合物。

6.根据权利要求1-5中任何一项的组合物(C)，其中组分(A)的总 量与组分(B)的总量的重量比在1:19和19:1之间。

7.根据权利要求1-6中任何一项的组合物(C)，其特征在于它包 括0.001-100wt％的合计量的组分(A)和组分(B)，基于组合物(C)的总重 量。

8.根据权利要求7的组合物(C)，其特征在于它包括5-90wt％的 合计量的组分(A)和组分(B)，基于组合物(C)的总重量。

9.根据权利要求7的组合物(C)，其特征在于它由组分(A)和组分 (B)组成。

10.根据权利要求7的组合物(C)，其特征在于它包括0.001-5wt％ 的合计量的组分(A)和组分(B)，基于组合物(C)的总重量。

11.制备在权利要求1-10中任何一项中所定义的组合物(C)的方 法，其特征在于以物理方式掺混组分(A)、组分(B)和任选的其它物质。

12.在权利要求1-10中任何一项所定义的组合物(C)用于稳定化有 机基材的用途。