[发明专利]用于流体压力装置的密封结构有效

专利信息
申请号: 200780031375.2 申请日: 2007-08-30
公开(公告)号: CN101506533A 公开(公告)日: 2009-08-12
发明(设计)人: 福井千明;高桥一义;玉井淳 申请(专利权)人: SMC株式会社
主分类号: F15B15/14 分类号: F15B15/14;F16J15/16;F16J15/00;F16J15/32;F16J15/10
代理公司: 上海市华诚律师事务所 代理人: 徐申民
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 用于 流体 压力 装置 密封 结构
【权利要求书】:

1.一种用于流体压力装置(10)的密封结构,在所述的流体压力装置(10)中, 活塞(22)在供至缸筒(16)缸室(20a,20b)的压力流体的作用下沿所述缸室(20a, 20b)移位,所述密封结构用来维持所述缸室(20a,20b)的气密性,其特征在于, 所述密封结构包括:

密封构件(70),该密封构件安装在所述缸筒(16)的开口端(40)中,所述密 封构件(70)包括:

第一密封元件(74),该第一密封元件(74)夹在所述缸筒(16)和封闭所述开 口端(40)的盖构件(18)之间,所述盖构件(18)在缸筒(16)侧的端面上具有凹 槽(48);和

第二密封元件(76),该第二密封元件(76)围绕连接至所述活塞(22)的活塞 杆(24)的外圆周表面,

其中,所述密封构件(70)是由弹性材料形成的;

所述密封构件(70)被一体安装在平板状的基体(68)上,并与所述基体(68) 一起被夹在所述盖构件(18)和所述缸筒(16)之间,所述基体(68)由金属材料或 硬树脂材料制成;并且

所述第一密封元件(74)形成为具有基本恒定的厚度,并且所述第一密封元件(74) 与所述基体(68)从所述缸筒(16)的内周表面沿着所述缸筒(16)的径向朝向所述 活塞杆(24)延伸;

所述密封构件(70)进一步包含形成于所述盖构件(18)侧的导向构件(78), 所述密封构件(70)通过该导向构件(78)被安装到所述基体(68)上;

当所述密封结构被安置在所述缸筒(16)和所述盖构件(18)之间时,所述导向 构件(78)容纳在所述盖构件(18)的凹槽(48)内;并且

所述第一密封元件(74)形成有凸部(80),该凸部(80)朝所述缸筒(16)和 所述盖构件(18)中的至少一个突出;

凹进预定深度的梯状部(42)被设置在所述缸筒(16)的所述开口端(40),所 述基体(68)和所述密封构件(70)在被所述盖构件(18)夹住的同时被插入所述梯 状部(42);

当所述密封结构被安置在所述缸筒(16)和所述盖构件(18)之间时,所述凸部 (80)抵靠所述梯状部(42)的端表面,以使得所述凸部(80)被沿着所述缸筒的轴 向挤压而弯折。

2.如权利要求1所述的用于流体压力装置的密封结构,其特征在于,所述第二密 封元件(76)形成有朝着所述活塞杆(24)的外圆周表面突出并且抵靠该表面的唇部 (82,84),从而在所述活塞杆(24)被移位时,所述唇部(82,84)总是相对于所 述外圆周表面滑动接触。

3.如权利要求2所述的用于流体压力装置的密封结构,其特征在于,所述唇部 (82,84)由沿所述活塞杆(24)的位移方向分开预定距离的第一唇部(82)和第二 唇部(84)形成,并且,所述第一唇部和第二唇部(82,84)在以预定角度倾斜的同 时,还在彼此相互分开的方向上延伸。

4.如权利要求3所述的用于流体压力装置的密封结构,其特征在于,所述第一唇 部(82)设置在所述活塞(22)侧,用于维持所述活塞杆(24)和所述缸筒(16)之 间的气密性,而所述第二唇部(84)设置在所述盖构件(18)侧,用于防止粘附在所 述活塞杆(24)上的灰尘或者类似物质渗入所述缸筒(16)。

5.如权利要求1所述的用于流体压力装置的密封结构,其特征在于,所述密封构 件(70)覆盖所述基体(68)的、面向所述活塞杆(24)的端部,使所述基体(68) 的端部被所述第一密封元件(74)、所述第二密封元件(76)和所述导向构件(78) 覆盖。

6.如权利要求1所述的用于流体压力装置的密封结构,其特征在于,与所述缸筒 (16)的开口端(40)相对应,所述基体(68)的横截面形成为椭圆形,并且所述密 封构件(70)的横截面形成为覆盖所述基体(68)端表面和内圆周区域的椭圆形。

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