[发明专利]液体处理系统

权利要求书

1.一种液体处理系统，包括：

用于接收液流的开放式通道；

位于开放式通道中的液体处理区域，其包括多个以如下方式定向的长条形的紫外线放 射源组件：(i)各个紫外线放射源组件的纵轴横切于液流经过液体处理区域的方向，以及 (ii)各个紫外线放射源组件的末端设置得高于开放式通道中的液流的预定最大高度；

设置在所述液体处理区域上游的第一挡板；

其中所述第一挡板设置成使其远端低于开放式通道中的液流的预定最大高度，第一挡 板的远端具有长条形边缘，位于横切于：(i)所述开放式通道的纵轴，(ii)所述放射源 组件的纵轴。

2.如权利要求1所述的液体处理系统，其特征在于，所述第一挡板跨越所述开放式通 道。

3.如权利要求1～2中任一所述的液体处理系统，其特征在于，还包括设置在所述液 体处理区域下游的第二挡板，所述第二挡板设置成其远端低于所述开放式通道中的液流的 预定最大高度。

4.如权利要求1所述的液体处理系统，其特征在于，所述第一挡板和第二挡板中的每 一个均跨越所述开放式通道。

5.如权利要求1～4中任一所述的液体处理系统，其特征在于，所述多个长条形紫外 线放射源组件包括一系列成排的紫外线放射源组件。

6.如权利要求5所述的液体处理系统，其特征在于，还包括介于所述成排的紫外线放 射源组件中的相邻一对之间的中间挡板。

7.如权利要求5所述的液体处理系统，其特征在于，还包括介于所述成排的紫外线放 射源组件中的每个相邻对之间的中间挡板。

8.如权利要求6～7中任一所述的液体处理系统，其特征在于，所述中间挡板跨越所 述开放式通道。

9.如权利要求5～8中任一所述的液体处理系统，其特征在于，每排紫外线放射源组 件包括用于从所述紫外线放射源组件的外表面除去污垢材料的清洗系统。

10.如权利要求1～4中任一所述的液体处理系统，其特征在于，所述多个紫外线放射 源组件包括用于从所述紫外线放射源组件的外表面中除去污垢材料的清洗系统。

11.如权利要求9所述的液体处理系统，其特征在于，所述清洗系统可在(i)位于相 邻一对挡板间的停放位置与(ii)位于所述紫外线放射源组件的远端附近的延伸位置之间 移动。

12.如权利要求10所述的液体处理系统，其特征在于，所述清洗系统可在(i)位于 第一挡板和第二挡板间的停放位置与(ii)位于所述紫外线放射源组件的远端附近的延伸 位置之间移动。

13.如权利要求9～12中任一所述的液体处理系统，其特征在于，所述清洗系统包括 与每个紫外线放射源组件相连的清洁环。

14.如权利要求13所述的液体处理系统，其特征在于，所述清洁环包括机械刮板元件。

15.如权利要求13所述的液体处理系统，其特征在于，所述清洁环包括用于接收洗涤 用组合物的腔室。

16.如权利要求1～15中任一所述的液体处理系统，其特征在于，所述每个紫外线放 射源组件包括具有电弧长度的紫外线放射源，所述电弧长度包括最接近的电弧端。

17.如权利要求16所述的液体处理系统，其特征在于，所述第一挡板和所述第二挡板 的远端基本上与所述紫外线放射源的所述最接近的电弧端对齐。

18.如权利要求16～17中任一所述的液体处理系统，其特征在于，所述紫外线放射源 设置在保护套中。

19.如权利要求18所述的液体处理系统，其特征在于，所述保护套包括封闭端和开口 端。

20.如权利要求1～19中任一所述的液体处理系统，其特征在于，每个紫外线放射源 组件包括紫外线放射源。