[发明专利]确定光学表面的实际形状偏离理想形状的偏差的方法和装置

权利要求书

1.一种确定光学表面的实际形状偏离理想形状的偏差的方法，包括如下 步骤：

提供入射电磁测量波，

提供两个衍射结构，所述两个衍射结构被设计为重塑到达波的波前，

通过辐射入射测量波到待标定的至少一个衍射结构，标定两个衍射结构 中的至少其中之一，以及在测量波和至少一个待标定的衍射结构相互作用后， 确定测量波的实际波前偏离理想波前的标定偏差，

将两个衍射结构置于入射测量波的光路中，从而测量波的各条光线辐射 通过两个衍射结构，以及通过两个衍射结构重塑入射测量波以形成适合的测 量波，其波前适合光学表面的理想形状，

将光学表面置于合适的测量波的光路中，从而适合的测量波和光学表面 相互作用，以及

在适合的测量波和光学表面相互作用之后，测量适合的测量波的波前。

2.如权利要求1所述的方法，

两个衍射结构分别被设计为重塑到达波的波前，以及在入射测量波的光 路中相继放置。

3.如权利要求1或2所述的方法，

衍射结构分别置于各自的基板中。

4.如权利要求1或2所述的方法，

两个衍射结构叠置在公共基板上。

5.如权利要求1或2所述的方法，

衍射结构被配置为，当标定至少一个衍射结构时产生的测量波的理想波 前具有球面形状，以及适合的测量波的波前具有旋转对称非球面的形状，离 轴非球面的形状和/或自由形式表面的形状。

6.如权利要求5所述的方法，

所述旋转对称非球面的形状是圆锥截面的形状。

7.如权利要求1或2所述的方法，

衍射结构被配置为，当标定至少一个衍射结构时产生的测量波的理想波 前具有圆锥截面形状，以及适合的测量波的波前具有旋转对称非球面的形状， 不同于圆锥截面或自由形式表面的形状。

8.如权利要求1或2所述的方法，

衍射结构被配置为，当标定至少一个衍射结构时产生的测量波的理想波 前具有旋转对称非球面形状，以及适合的测量波的波前具有自由形式表面的 形状。

9.如权利要求1或2所述的方法，

衍射结构被配置为，当标定至少一个衍射结构时产生的测量波的理想波 前具有具有第一半径的球面形状，以及适合的测量波的波前具有具有第二半 径的球面的形状。

10.如权利要求1或2所述的方法，

当重塑入射测量波以形成适合的测量波时，两个衍射结构中的第一个产 生波前重塑的主要部分，以及该衍射结构被标定。

11.如权利要求1或2所述的方法，

衍射结构之一的线密度是最大每毫米30线。

12.如权利要求1或2所述的方法，

进一步包括从适合的测量波的所测量的波前，考虑到标定偏差，确定光 学表面的实际形状偏离理想形状的偏差的步骤。

13.如权利要求1或2所述的方法，

重塑入射测量波以形成适合的测量波，包括如下步骤：

通过两个衍射结构的第一个重塑入射测量波，以形成近似的测量波，其 波前近似于光学表面的理想形状，以及

通过置于近似的测量波的光路中的第二衍射结构，重塑近似的测量波的 至少一部分以形成适合的测量波。

14.如权利要求13所述的方法，

第一衍射结构被标定。

15.如权利要求13所述的方法，

适合的测量波的传播方向相对于近似的测量波的传播方向倾斜。

16.如权利要求13所述的方法，

近似的测量波具有球面波前。

17.如权利要求13所述的方法，

近似的测量波的波前基本上具有光学表面的最适应球面的形状。