[发明专利]用于光学应用和涂料应用的含铅聚丙烯酸酯无效
| 申请号: | 200780026816.X | 申请日: | 2007-03-09 |
| 公开(公告)号: | CN101490112A | 公开(公告)日: | 2009-07-22 |
| 发明(设计)人: | R·K·坎达尔;A·马利克;G·塞沙德里;M·蒂雅吉 | 申请(专利权)人: | 什里兰工业研究学院 |
| 主分类号: | C08F20/04 | 分类号: | C08F20/04;C08F2/46;G02B1/04 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 任宗华 |
| 地址: | 印度*** | 国省代码: | 印度;IN |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 光学 应用 涂料 聚丙烯酸酯 | ||
技术领域
本发明涉及在眼科应用,例如偏振透镜、光波导、光纤等中使用 和作为用于涂布膜的清漆组合物的聚合物材料的制备方法。
技术领域
塑料透镜近年来流行在光学元件,例如透镜等中使用。广泛用于 生产塑料透镜的树脂是二甘醇双烯丙基碳酸酯(1.50)和聚丙烯酸酯 (1.45)。由它们制备的透镜具有比玻璃透镜(nd=1.52)低的折射指数。 为了获得与玻璃透镜相当的性能,需要增加中心厚度、周围厚度和透 镜的曲率,其结果是透镜变得非常厚。
其他缺点是硬度差和冲击强度低。
发明目的
本发明的目的是提出在光学透镜和涂层中使用的聚合物材料的制 备方法。
本发明另一目的是提出在光学透镜和涂层中使用的聚合物材料的 制备方法,其折射指数高于已知的现有技术。
本发明再一目的是提出在光学透镜和涂层中使用的聚合物材料的 制备方法,其具有相当高的硬度。
本发明又一目的是提出在光学透镜和涂层中使用的聚合物材料的 制备方法,其具有比已知的现有技术高的冲击强度。
本发明进一步的目的是提出在光学透镜和涂层中有效地使用的聚 合物材料的制备方法。
根据下述说明,本发明进一步的目的和优点将变得更加显而易见。
发明内容
根据本发明,提供在光学透镜和涂层中使用的塑料材料的制备方 法,该方法包括下述步骤:
a)在丙烯酸系物质内分散一氧化铅,形成单体混合物;
b)添加选自苯基乙酸或肉桂酸中的芳族羧酸到这一单体混合物 中;
c)添加交联剂,例如苯乙烯到步骤c的混合物中,和
d)通过γ辐射线,对步骤(c)的混合物进行聚合的步骤。
根据本发明,该方法包括在丙烯酸内分散19%-21wt%的一氧化 铅。已发现,若大于21wt%的一氧化铅加入到丙烯酸中,则该混合物 不再均匀,因为一些金属盐沉淀析出。在25-30℃的温度下搅拌该混 合物,以获得均匀混合物。
当添加21wt%的一氧化铅时,该单体混合物的折射指数为1.473, 和当添加19wt%的金属盐时,折射指数为1.442,相比之下丙烯酸的折 射指数为1.420。
向这一混合物中添加芳族羧酸,以增加折射指数。芳族羧酸选自 苯基乙酸或肉桂酸。已发现,肉桂酸赋予塑料材料一定的颜色。因此, 在其中不希望颜色的情况下,苯基乙酸用于透镜,和对于涂层来说, 使用肉桂酸。已发现,存在金属离子造成产物冲击强度的提高。存在 金属离子,例如铅离子仅仅在一定程度上会增加产品的折射指数。
如上所述,首先添加一氧化铅,并搅拌,形成均匀的混合物。然 而,若首先添加芳族羧酸,紧跟着添加金属离子,则分散性下降。
还在搅拌条件下和在环境温度下添加芳族羧酸。添加用量为11% -13wt%的苯基乙酸和用量为9%-11wt%的肉桂酸。若大于13wt%的 苯基乙酸,或者大于11wt%的肉桂酸加入到该混合物中,则折射指数 没有增加。然而,若小于11wt%的苯基乙酸或9wt%的肉桂酸加入到该 混合物中,则折射指数下降。
交联剂,例如苯乙烯最后加入到混合物中且用量为0.3-0.4mol。 苯乙烯还辅助改进单体单元之间的交联。
在钴60作为辐射源存在下,通过γ辐射线,对这一混合物进行聚 合步骤。在其中要求透镜的情况下,对混合物进行铸塑聚合的步骤。 所使用的剂量为0.8-1.2兆拉德。
根据下述实施例,本发明进一步的目的和优点变得更加显而易见, 这些实施例不打算赋予对本发明范围的任何限制。
实施例1
将在丙烯酸和苯基乙酸内分散的5g含一氧化铅的混合物加入到 3.12g苯乙烯中。将该混合物注入到玻璃模具内,并在钴60存在下, 在1.2兆拉德剂量下进行γ辐射。聚合的透镜具有下述性能:
折射指数 1.595
透光率 >90%
肖氏D硬度 85
阿贝值(Abbey no) 36
冲击强度 通过FDA(美国食品药品管理局)标准。
实施例2
重复实施例1,所不同的是使用肉桂酸替代苯基乙酸。在1.2兆 拉德剂量下进行γ辐射。聚合材料具有颜色,和被用作涂层。
要注意,对于本领域的技术人员来说,本发明对各种改性、修正 和变化敏感。使用本发明概念和特征的这种变通实施方案拟落在本发 明的范围内,其中本发明的范围进一步通过下述权利要求列出。
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