[发明专利]表面检查设备有效
| 申请号: | 200780025323.4 | 申请日: | 2007-07-03 |
| 公开(公告)号: | CN101484775A | 公开(公告)日: | 2009-07-15 |
| 发明(设计)人: | 渡部贵志 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
| 主分类号: | G01B11/30 | 分类号: | G01B11/30;G01N21/956;H01L21/66 |
| 代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 车 文;张建涛 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 表面 检查 设备 | ||
1.一种用于观察待检查物体的边缘部分的表面检查设备,包括:
照明装置,其将照明光照射到所述边缘部分;以及
观察装置,其形成利用所述照明光照明的所述边缘部分的观察范 围的像,其中
所述照明装置构造成射出第一照射光束和第二照射光束作为所述 照明光,并且所述照明装置包括光源和光扩散板,所述光扩散板从光 射出表面扩散从所述光源照射的光并照射所扩散的光作为所述第一照 射光束和所述第二照射光束,所述第一照射光束成近似直角地入射到 所述边缘部分,用于补偿所述像的亮度,而所述第二照射光束侧向倾 斜地入射到所述边缘部分的所述观察范围,用于生成依据所述观察范 围的表面状态的阴影。
2.根据权利要求1所述的表面检查设备,其中
所述第二照射光束的光量大于所述第一照射光束的光量。
3.根据权利要求2所述的表面检查设备,其中
从所述照明装置射出的所述第二照射光束的光量为最大值的点位 于沿着从所述观察范围到所述照明装置的方向而限定的预定范围之 外。
4.根据权利要求1所述的表面检查设备,其中
光量分布基于所述光源与所述光扩散板之间的相对位置关系而设 置。
5.根据权利要求1所述的表面检查设备,其中
光量分布基于所述光扩散板的光学特性而设置。
6.根据权利要求1所述的表面检查设备,还包括:
移动机构,其相对于所述待检查物体相对地移动所述照明装置。
7.根据权利要求1所述的表面检查设备,其中
所述观察装置包括形成所述观察范围的放大像的成像光学系统和 拍摄所述放大像的摄像装置。
8.根据权利要求1所述的表面检查设备,其中
所述照明光具有明线光谱。
9.根据权利要求7所述的表面检查设备,其中
所述照明光具有明线光谱,并且所述摄像装置是彩色摄像装置。
10.根据权利要求1所述的表面检查设备,其中
所述待检查物体是半导体晶片。
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