[发明专利]气体均化系统

权利要求书

1.一种用于调节气体特性的气体均匀化系统，所述气体来自气化设 备，所述气体均匀化系统包括：

a)均匀化室，其包括气体进口和气体出口，所述均匀化室配置为均匀 化来自气化设备的不含颗粒物质的气体；

b)一个或更多个感测元件，其与所述均匀化室相关联，用于监测所述 气体的一个或更多个气体的特性；

c)一个或更多个响应元件，其与所述均匀化室相关联，用于影响对所 述气体的所述一个或更多个特性的变化；以及

d)一个或更多个工艺设备，其可操作地连接到所述一个或更多个响应 元件，用于调节所述气体的所述一个或更多个特性，以满足一个或多个气 体发动机或一个或多个气体涡轮的要求；

其中所述均匀化室设计成适应足以实现所述一个或更多个气体特性 的监测和调节的停留时间。

2.一种调节气体特征的气体均匀化系统，所述气体来自气化设备， 所述气体均匀化系统包括：

a)均匀化室，其包括气体进口和气体出口，所述均匀化室配置为均匀 化来自气化设备的不含颗粒物质的气体；

b)与所述气体进口流体连通的气体进口结构，其包括：

i）一个或多个进口管道；和

ii）用于对与所述气体的化学组分、温度、流量和压力参数相关的数 据进行监控的一个或多个感测元件；

c)经调节的气体出口机构，其与所述气体出口流体连通用于将经稳定 的气体输出引导至下游应用，所述出口机构包括一个或多个出口管道；

d)与所述系统相关联以调节所述气体的化学组分、温度、流量和压力 参数的一个或多个工艺设备；和

e)与所述一个或多个工艺设备以可操作的方式相关联的一个或多个 响应元件，用于影响所述系统以优化所述气体的化学组分、温度、流量和 压力参数，以满足一个或多个气体发动机或一个或多个气体涡轮的要求；

其中，所述均化室设计成适应足以实现所述气体组分、温度、流量和 压力的监控和调节的停留时间。

3.如权利要求2所述的系统，其中所述气体均匀化系统还包括用于 向所述均匀化室提供均匀的输入气体流的气流引入设备。

4.如权利要求2所述的系统，其中所述气体均匀化系统还包括用于 调节均匀化室的气体上流的温度的冷却器。

5.如权利要求2所述的系统，其中所述气体均匀化系统还包括用于 调节均匀化室的气体上流的湿度的气体/液体分离器。

6.如权利要求2所述的系统，其中所述气体均匀化系统还包括用于 调节均匀化室的下游气体的温度和湿度的气体调节滑行器。

7.如权利要求2所述的系统，其中所述气体均匀化系统还包括用于 从均匀化室的气体上流去除杂质的过滤器。

8.如权利要求2所述的系统，其中气体均匀化系统配置成调节一个 或更多个气体参数，以产生小于约0.145psi/秒的压力变化极限。

9.如权利要求2所述的系统，其中气体均匀化系统配置成调节一个 或更多个气体参数，以在约30秒内产生具有不高于约1%变化的变化的经 调节气体成分低热值。

10.如权利要求2所述的系统，其中气体均匀化系统配置成调节一个 或更多个气体参数，以产生具有大约50BTU/scf的高热值的经调节气体， 带有最少约12%的氢。

11.如权利要求2所述的系统，其中气体均匀化系统配置成调节一个 或更多个气体参数，以产生具有大于或等于露点温度加上约20°F的气体 温度的气体，其中相对湿度在最大约80%。

12.如权利要求2所述的系统，其中所述气体均匀化系统配置成将经 调节气体引导到一个下游应用设备或多个下游应用设备。

13.如权利要求2所述的系统，其中所述气体均匀化系统配置成具有 范围从0到30,000m3的可变气体体积。