[发明专利]发光装置无效

专利信息
申请号: 200780019128.0 申请日: 2007-02-26
公开(公告)号: CN101455122A 公开(公告)日: 2009-06-10
发明(设计)人: 荣田畅;熊均;细川地潮;福田雅彦 申请(专利权)人: 出光兴产株式会社
主分类号: H05B33/12 分类号: H05B33/12;H01L51/50
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光 装置
【权利要求书】:

1.一种发光装置,其特征在于,

在支承基板上,具有荧光介质和被覆所述荧光介质的发光元件,

所述发光元件具有相互不平行的2个以上的发光面,

将从所述发光元件发出的光与所述荧光介质发出的光混合发出。

2.根据权利要求1所述的发光装置,其中,从相互不平行的2个以上的发光面发出且相对于发光面为法线方向的光透过荧光介质时,荧光介质内的透过距离大致相等。

3.根据权利要求1或2所述的发光装置,其中,所述荧光介质为凸状。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的发光装置,其中,所述发光元件的一部分被覆所述荧光介质,一部分不被覆。

5.根据权利要求4所述的发光装置,还在支承基板设有凸状部或凹状部,未被覆所述荧光介质的发光元件形成在所述凸状部或凹状部上。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的发光装置,在支承基板上还具有凸状部,

所述荧光介质以基本均匀的厚度形成在所述凸状部上。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的发光装置,还在所述发光元件和所述荧光介质之间具有透明阻挡层。

8.根据权利要求1~7中任一项所述的发光装置,其中,所述发光元件的透明电极作为透明阻挡层发挥作用。

9.根据权利要求1~8中任一项所述的发光装置,其中,在支承基板上设有凹状部,所述发光元件和荧光介质形成于所述凹状部。

10.根据权利要求1~9中任一项所述的发光装置,其中,从所述发光元件发出的光和从所述荧光介质发出的光由支承基板侧被取出。

11.根据权利要求1~9中任一项所述的发光装置,其中,从所述发光元件发出的光和从所述荧光介质发出的光由支承基板的相反侧被取出。

12.根据权利要求1~11中任一项所述的发光装置,其中,所述荧光介质含有纳米晶荧光体。

13.根据权利要求12所述的发光装置,其中,所述纳米晶荧光体为半导体纳米晶体。

14.根据权利要求1~13中任一项所述的发光装置,其中,所述发光元件为有机EL元件。

15.根据权利要求1~14中任一项所述的发光装置,其中,混合了从所述发光元件发出的光和从所述荧光介质发出的光的光为白色。

16.一种发光装置,其特征在于,

在支承基板上,具有设有相互不平行的2个以上的发光面的发光元件和荧光介质,

所述荧光介质被配置在与取出所述发光元件发出的光的方向不同的方向上,

将所述发光元件发出的光与所述荧光介质发出的光混合发出。

17.根据权利要求16所述的发光装置,其中,所述发光元件的表面为凸状。

18.根据权利要求16或17所述的发光装置,其中,所述荧光介质的表面为凸状。

19.根据权利要求17或18所述的发光装置,其中,所述凸状为半球状。

20.根据权利要求16~19中任一项所述的发光装置,其中,所述荧光介质被配置在与取出所述发光元件发出的光的方向相垂直的方向上。

21.根据权利要求16~20中任一项所述的发光装置,其中,在所述支承基板上并列放置有2个以上的所述发光元件,

在所述发光元件之间具有所述荧光介质。

22.根据权利要求16~21中任一项所述的发光装置,其中,所述荧光介质包埋所述发光元件。

23.根据权利要求16~22中任一项所述的发光装置,其中,层叠有2个以上的所述发光元件。

24.根据权利要求16~23中任一项所述的发光装置,将所述发光元件发出的光和所述荧光介质发出的光从所述支承基板侧取出。

25.根据权利要求16~23中任一项所述的发光装置,其中,将所述发光元件发出的光和所述荧光介质发出的光从所述支承基板的相反侧取出。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于出光兴产株式会社,未经出光兴产株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780019128.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top