[发明专利]等离子处理用气体供给管无效
| 申请号: | 200780017506.1 | 申请日: | 2007-05-02 |
| 公开(公告)号: | CN101443478A | 公开(公告)日: | 2009-05-27 |
| 发明(设计)人: | 小石亮介;藤本博 | 申请(专利权)人: | 东洋制罐株式会社 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李贵亮 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 等离子 处理 气体 供给 | ||
1.一种等离子处理用气体供给管,其特征在于,
所述等离子处理用气体供给管是被插入到保持于等离子处理室内的容器内部,通过向容器内部供给等离子处理用气体,在容器内面形成蒸镀膜的等离子处理用气体供给管,
该等离子处理用气体供给管具备由金属管构成的供给管主体、由非金属管构成的供给路延长构件和连接构件,所述连接构件用于连接所述供给管主体和所述供给路延长构件,
所述供给管主体由多孔不锈钢管形成,所述供给路延长构件由氟树脂形成,所述连接构件由钛或陶瓷形成,并且所述连接构件的热膨胀率为10×10-6/℃以下。
2.根据权利要求1所述的等离子处理用气体供给管,其中,
所述供给管主体具有气体喷出孔。
3.根据权利要求1所述的等离子处理用气体供给管,其中,
将所述等离子处理用气体供给管中的金属部分的长度定于微波的1/2波长,使所述供给管主体通过所述连接构件与所述供给路延长构件连接,由此将所述等离子处理用气体供给管延长至所述容器的底部附近。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





