[发明专利]向光纤写入具有切趾光谱的光纤布拉格光栅的方法及系统

权利要求书

1.一种向具有折射率的光纤写入具有大体切趾光谱的光栅的系统，所述系统包括：

a.产生激光束的激光源；

b.柱面透镜，基本上横切所述激光束放置，用以将所述激光束聚焦成聚焦光束并朝焦点聚焦；

c.基本上横切所述聚焦光束放置的振幅掩模，所述振幅掩模具有用以产生窄聚焦光束的孔径；

其中所述光纤基本上横切所述窄聚焦光束放置，并且大体位于所述柱面透镜的所述焦点附近或焦点处，借此所述窄聚焦光束照射所述光纤的狭窄部分，并改变所述光纤该所述狭窄部分的所述折射率。

2.如权利要求1所述的系统，其中所述激光源是紫外激光源。

3.如权利要求2所述的系统，其中所述紫外激光源的波长是244纳米或248纳米。

4.如权利要求1所述的系统，其中所述系统还包括基本上横切所述振幅掩模与所述光纤之间的所述窄聚焦光束放置的相位掩模。

5.如权利要求1所述的系统，其中所述振幅掩模沿所述聚焦光束的位置可以改变。

6.如权利要求4所述的系统，其中所述振幅掩模沿所述聚焦光束的位置可以改变。

7.如权利要求1所述的系统，其中所述孔径是狭窄孔径。

8.如权利要求1所述的系统，其中所述孔径是狭缝状孔径。

9.一种向具有折射率的光纤写入具有大体切趾光谱的光栅的方法，所述方法包括步骤：

a.导引激光束到柱面透镜，该柱面透镜基本横切所述激光束放置；

b.用所述柱面透镜将所述激光束聚焦成聚焦光束，并朝焦点聚焦；

c.导引所述聚焦光束到振幅掩模上，该振幅掩模基本横切所述聚焦光束放置，所述振幅掩模具有用以产生窄聚焦光束的孔径；

d.导引所述窄聚焦光束到所述光纤上，所述光纤基本横切所述窄聚焦光束放置，并大体位于所述柱面透镜的所述焦点附近或焦点处，借此所述窄聚焦光束照射所述光纤的狭窄部分，并改变所述光纤该所述狭窄部分的所述折射率。

10.如权利要求9所述的方法，其中所述激光束是紫外激光束。

11.如权利要求10所述的方法，其中所述紫外激光源的波长是244纳米或248纳米。

12.如权利要求9所述的方法，其中步骤d)用下面步骤替代：

d.导引所述窄聚焦光束到相位掩模上，该相位掩模基本横切所述窄聚焦光束放置，借此所述相位掩模产生衍射光束；

e.导引所述衍射光束到所述光纤上，所述光纤基本横切所述衍射光束放置，并大体位于所述柱面透镜的所述焦点附近或焦点处，借此所述衍射光束用具有交替的低光强区和高光强区的干涉图案照射所述光纤的一部分，并借此所述高光强区改变所述这些区的所述折射率。

13.如权利要求9的方法，还包括调节所述振幅掩模沿所述聚焦光束的位置的步骤。

14.如权利要求9的方法，其中所述孔径是狭窄孔径。

15.如权利要求9的方法，其中所述孔径是狭缝状孔径。

16.一种向具有折射率的光纤写入具有大体切趾光谱的光栅的系统，所述系统包括：

a.产生激光束的激光源；

b.柱面透镜，基本上横切所述激光束放置，用以将所述激光束聚焦成聚焦光束并朝焦点聚焦；

c.基本上横切所述聚焦光束放置的振幅掩模，所述振幅掩模具有用以产生窄聚焦光束的孔径；

d.基本上横切所述窄聚焦光束放置的相位掩模，所述相位掩模产生衍射光束；

其中所述光纤基本上横切所述衍射光束放置，并且大体位于所述柱面透镜的所述焦点附近或焦点处，借此所述衍射光束用具有交替的低光强区和高光强区的干涉图案照射所述光纤的一部分，并借此所述高光强区改变所述这些区的所述折射率。

17.如权利要求16所述的系统，其中所述激光源是紫外激光源。

18.如权利要求17所述的系统，其中所述紫外激光源的波长是244纳米或248纳米。

19.如权利要求16所述的系统，其中所述振幅掩模沿所述聚焦光束的位置可以改变。

20.如权利要求16所述的系统，其中所述孔径是狭窄孔径。

21.如权利要求16所述的系统，其中所述孔径是狭缝状孔径。