[发明专利]液体分配系统

权利要求书

1.一种用于将液体分配到至少一个使用部位的设备，该设备包括：

分配容器，该分配容器具有从分配容器分配液体的分配操作模式和将液体引入分配容器的填充操作模式；

返回容器，该返回容器具有将未使用的液体返回到返回容器的返回操作模式和从返回容器传输出液体的传输操作模式；

液体分配系统，该液体分配系统连接至少一个使用部位、分配容器和返回容器，以从分配容器向至少一个使用部位提供液体、将未使用的液体返回到返回容器中、以及将液体从返回容器传输到分配容器；以及

控制装置，该控制装置调节通过液体分配系统的液体的流量，使得在至少一个使用部位处的液体流量基本恒定。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，该设备还包括与所述分配容器相联以测量分配容器中液体的量的第一传感器装置，以及与返回容器相联以测量返回容器中液体的量的第二传感器装置。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述第一传感器装置和第二传感器装置相同或不同，并且选自液位传感器、测压元件、光学传感器、电容传感器、浮子传感器、雷达传感器。

4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述液体分配系统包括用于向分配容器或返回容器、或者向二者提供液体的液体源。

5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，所述液体源是常用罐，所述液体分配系统还包括用于将液体泵送到分配容器内的泵装置。

6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述泵装置包括容积式泵、离心泵、叶轮泵或调速泵。

7.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，所述液体源是加压罐。

8.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述液体分配系统还包括用于将流向至少一个使用部位的液体的流速控制在预定范围内的控制装置，其中，该控制装置连接到用于分配容器的控制部件。

9.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，所述控制装置是压力传感器。

10.根据权利要求9所述的设备，其特征在于，所述控制设备包括氮气源和调节器。

11.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，所述控制装置包括流量计。

12.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，所述控制装置还连接到用于返回容器的控制部件。

13.根据权利要求12所述的设备，其特征在于，所述用于返回容器的控制装置是氮气源和调节器。

14.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述至少一个使用部位是半导体制造工艺中的工具。

15.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述液体是浆液。

16.一种分配液体的方法，该方法包括：

将液体从液体源填充到分配容器中，直到预定的分配高位设定点；

将液体以超过所需量的方式提供到至少一个使用部位；

将多出的液体提供到返回容器，直到预定的返回高位设定点；

当所述分配容器中的液位达到预定的分配低位设定点时，从返回容器或液体源中的至少一个进一步向分配容器提供液体；

其中，分配容器中的液位保持在预定的分配高位设定点和预定的分配低位设定点之间，返回容器中的液位保持在预定的返回高位设定点和预定的返回低位设定点之间。

17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，所述至少一个使用部位是半导体制造工艺中的工具。

18.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，所述液体是浆液。

19.一种将流向至少一个使用部位的流体的流速保持恒定的方法，该方法包括：

通过液体分配系统向至少一个使用部位提供液体；

在至少一个使用部位附近测量液体的特性；以及

基于所测量的特性来控制通过流体分配系统的液体的流速。

20.根据权利要求19所述的方法，其特征在于，所测量的特性是压力，对流速的控制包括控制与液体分配系统相联的液体分配容器中的压力。