[发明专利]双折射膜及其制造方法

权利要求书

1.一种双折射膜，其折射指数椭圆满足nx>nz>ny的关系，且含有至少1种具有-SO₃M基及/或-COOM基的多环化合物，其中，M表示抗衡离子。

2.根据权利要求1所述的双折射膜，其中，所述双折射膜在波长590nm处的面内双折射率Δn[590]为0.05以上。

3.根据权利要求1或2所述的双折射膜，其中，所述双折射膜的厚度为0.05μm～10μm。

4.根据权利要求1～3中的任意一项所述双折射膜，其中，所述双折射膜含有下述通式(I)所示的苊并[1，2-b]喹喔啉衍生物，

式中，i、j、k、l分别独立地为0～4的整数，m、n分别独立地为0～6的整数，R₁、R₂分别表示碳数1～6的烷基，M表示可分别相同也可不同的抗衡离子，i、j、k、l、m、及n不同时为0。

5.根据权利要求1～4中的任意一项所述的双折射膜，其中，所述双折射膜在波长590nm处的面内相位差值Re[590]为20nm～1000nm。

6.根据权利要求1～5中的任意一项所述的双折射膜，其中，所述双折射膜在波长590nm处的面内相位差值Re[590]与厚度方向的相位差值Rth[590]的差为10nm～800nm。

7.根据权利要求1～6中的任意一项所述的双折射膜，其中，所述双折射膜的Nz系数为大于0且小于1。

8.一种层叠膜，其至少具有权利要求1～7中的任一项所述的双折射膜及基材。

9.一种双折射膜的制造方法，其包括以下(1)～(3)的工序：

(1)制备含有溶剂及至少1种具有-SO₃M基及/或-COOM基的多环化合物、且显示向列型液晶相的溶液的工序，其中，M表示抗衡离子；

(2)准备至少一个表面被亲水化处理的基材的工序；

(3)在所述工序(2)中所准备的基材的经亲水化处理的表面上，涂布在所述工序(1)中制备的溶液，且使其干燥的工序。

10.根据权利要求9所述的双折射膜的制造方法，其中，所述亲水化处理为电晕处理、等离子处理、碱处理、或结合层(Anchor coat)处理。

11.根据权利要求9或10所述的双折射膜的制造方法，其中，所述基材为玻璃基板或高分子膜。

12.一种偏振板，其至少具有权利要求1～7中任一项所述的双折射膜及偏振片。