[发明专利]成膜装置及阻挡膜的制造方法无效
| 申请号: | 200780013935.1 | 申请日: | 2007-04-17 |
| 公开(公告)号: | CN101426952A | 公开(公告)日: | 2009-05-06 |
| 发明(设计)人: | 原田雅通 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455;C23C16/452;H01L21/285 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 熊玉兰;孙秀武 |
| 地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 装置 阻挡 制造 方法 | ||
1.一种成膜装置,其包括:
真空槽,
配置在上述真空槽内的放置成膜对象物的支架,
与上述支架分隔配置的催化剂材料,
使上述催化剂材料升温的催化剂加热装置,
将化学结构中含金属元素的金属材料气体导入上述真空槽内的金属材料气体供给系统,
将与上述金属材料气体反应生成金属化合物的反应性气体导入上述真空槽内的反应性气体供给系统,
将不阻碍上述金属化合物反应的防逆流气体导入上述真空槽内的防逆流气体供给系统,和
从配置于上述支架附近的排气口将上述真空槽内真空排气的真空排气系统;
向上述真空槽导入上述反应性气体的导入口和导入上述防逆流气体的导入口配置在比上述催化剂材料离上述支架更远的位置上,
导入上述金属材料气体的导入口配置在上述催化剂材料和上述支架之间。
2.权利要求1所述的成膜装置,其包含将与上述金属材料气体反应生成中间产物的辅助气体导入上述真空槽内的辅助气体供给系统,
上述金属化合物由上述反应性气体与上述中间产物的反应而生成。
3.权利要求1所述的成膜装置,其在上述催化剂材料和上述支架之间配置有形成了多个贯通孔的喷淋板,在上述真空槽内形成有:配置了上述催化剂材料和上述反应性气体导入口的自由基生成室、和配置了上述支架和上述金属材料气体导入口的反应室。
4.权利要求3所述的成膜装置,其包含将与上述金属材料气体反应生成中间产物的辅助气体导入上述真空槽内的辅助气体供给系统,
上述辅助气体供给系统的导入口配置于上述自由基生成室,
上述金属化合物通过上述反应性气体与上述中间产物的反应而生成。
5.一种阻挡膜制造方法,在真空槽内配置催化剂材料和成膜对象物,使上述催化剂材料升温,反复进行下述两个工序:
将化学结构中含金属元素的金属材料气体导到上述催化剂材料和上述成膜对象物之间的工序,和
使与上述金属材料气体反应生成金属化合物的反应性气体接触于上述催化剂材料,生成上述反应性气体的自由基的工序;
在上述成膜对象物表面上形成由含有上述金属元素的金属化合物构成的阻挡膜,
其中,向上述真空槽内导入不阻碍上述金属化合物生成的防逆流气体,在形成从上述催化剂材料侧流向上述成膜对象物侧的上述防逆流气体气流的状态下,导入上述金属材料气体和上述反应性气体。
6.权利要求5所述的阻挡膜制造方法,其中,使用TiCl4作为上述金属材料气体,使用NH3气或SiH4气中的任一种作为上述反应性气体。
7.权利要求5所述的阻挡膜制造方法,其中,向上述真空槽内导入辅助气体,使上述辅助气体与上述催化剂材料相接触,生成辅助气体的自由基,使吸附在上述成膜对象物表面的上述金属材料气体与上述辅助气体的自由基反应,生成中间产物,使所生成的中间产物与上述反应性气体反应,生成上述金属化合物。
8.权利要求7所述的阻挡膜制造方法,其中,使用H2气体作为上述辅助气体。
9.权利要求5所述的阻挡膜制造方法,其中,在上述催化剂材料和上述成膜对象物之间配置形成有多个贯通孔的喷淋板,形成上述催化剂材料所在的自由基生成室和上述成膜对象物所在的反应室,
上述金属材料气体导入上述反应室,上述反应性气体和上述防逆流气体导入上述自由基生成室,
从配置在上述反应室的排气口将上述反应室内的气体真空排出。
10.权利要求9所述的阻挡膜制造方法,其中,向上述自由基生成室内导入辅助气体,使上述辅助气体与上述催化剂材料相接触,生成辅助气体的自由基,使吸附在上述成膜对象物表面的上述金属材料气体与上述辅助气体的自由基反应,生成中间产物,使所生成的中间产物与上述反应性气体反应,生成上述金属化合物。
11.权利要求10所述的阻挡膜制造方法,其中,使用H2气体作为上述辅助气体。
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