[发明专利]光电的半导体元件有效
申请号: | 200780013240.3 | 申请日: | 2007-03-15 |
公开(公告)号: | CN101421890A | 公开(公告)日: | 2009-04-29 |
发明(设计)人: | S·卢特根;P·布里克;T·阿尔布雷克特 | 申请(专利权)人: | 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 |
主分类号: | H01S5/183 | 分类号: | H01S5/183;H01S3/04;H01S5/14;H01S5/024;H01S3/108 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 曹 若 |
地址: | 德国雷*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光电 半导体 元件 | ||
1.光电的半导体元件,包括半导体本体(1),该半导体本体具 有
-表面发射性的包括垂直发射极层(3)的垂直发射极区域(2),
-至少一个设置用于光学抽运所述垂直发射极层(3)的抽运源(4), 和
-辐射穿透表面(26),在所述垂直发射极层中产生的电磁辐射(31) 通过该辐射穿透表面(26)离开所述半导体本体(1),其中
-所述抽运源(4)和所述垂直发射极层(3)沿垂直方向相互隔开,
-所述垂直发射极层(3)布置在所述半导体本体(1)的台型结构 (6)中,
-在所述台型结构(6)的周围环境中至少局部地将包含有金属的材 料(9)施加到半导体本体(1)上,
-所述包含有金属的材料(9)填充所述台型结构(6)的周围环境, 其中以如此厚度施加所述材料,使得其具有和所述台型结构(6)相同 的高度或者所述台型结构被所述材料所超过,
-所述抽运源(4)布置在所述垂直发射极层(3)和所述辐射穿透 表面(26)之间,并且
-所述抽运源(4)和所述垂直发射极区域(2)彼此整体地集成。
2.按权利要求1所述的光电的半导体元件,
其中,所述材料(9)以电镀方式在所述台型结构(6)的周围环 境中沉积。
3.按权利要求1所述的光电的半导体元件,
其中,限定所述台型结构(6)的侧面(27)构造为对抽运辐射来 说反射性的。
4.按前一项权利要求所述的光电的半导体元件,
其中,给所述台型结构(6)的侧面(27)至少局部地涂上材料(23、 24),所述材料(23、24)对抽运辐射来说具有至少80%的反射性。
5.按权利要求3所述的光电的半导体元件,
其中,所述台型结构(6)的侧面(27)至少局部地按照下列光学 的基础元件中的一种的类型来构造:截锥镜组、棱锥台镜组、组合的 抛物线的集中器、组合的椭圆形的集中器、组合的双曲线的集中器。
6.按权利要求3所述的光电的半导体元件,
其中,所述台型结构(6)的侧面(27)至少局部地设置用于将抽 运辐射导向所述垂直发射极层(3)。
7.按权利要求1所述的光电的半导体元件,
其中,所述垂直发射极区域(3)包括不含掺杂材料的布拉格-反射 镜结构(7)。
8.按前一项权利要求所述的光电的半导体元件,
其中,所述布拉格-反射镜结构(7)布置在所述垂直发射极层(3) 的背向所述抽运源(4)的一面上。
9.按权利要求8所述的光电的半导体元件,
其中,所述光电的半导体元件包括至少一个反射镜(34),该反 射镜(34)与所述布拉格-反射镜结构(7)一起形成用于在所述垂直发 射极层(3)中产生的电磁辐射(31)的激光谐振腔。
10.按前一项权利要求所述的光电的半导体元件,
其中,在所述激光谐振腔中布置了至少一个光学元件(30、32), 该光学元件(30、32)与所述光电的半导体元件的半导体本体处于热 接触之中。
11.按前一项权利要求所述的光电的半导体元件,
其中,所述光学元件(30、32)具有下列光学性能中的至少一项 光学性能:选频、频率倍增、反射、光学折射。
12.按前一项权利要求所述的光电的半导体元件,
其中,所述光学元件(30、32)至少局部地由下列光学的基础元 件中的一种基础元件构成:校准器、双折射的滤波器、在光学上非线 性的晶体、反射镜、透镜。
13.按权利要求9所述的光电的半导体元件,
其中,所述激光谐振腔具有最高10毫米的长度(L)。
14.按前一项权利要求所述的光电的半导体元件,
其中,所述激光谐振腔具有最高5毫米的长度(L)。
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