[发明专利]微光刻投影光学系统、工具及其制造方法

权利要求书

1.一种微光刻投影光学系统：

-包括多个光学元件，该光学元件设立为将来自物平面中的物场的波长 为入的辐射成像到像平面中的像场，

-该光学系统具有位于距物平面大于2.8m的入瞳，

-其中该光学系统的辐射路径具有与物平面处的法线成3°或更大夹角 的主光线，

该光学系统在物平面处为远心的，

该多个元件包括两个元件，所述两个元件是位于辐射路径中的具有非旋 转对称表面的反射元件。

2.根据权利要求1所述的光学系统，其中该主光线与物平面处的法线成 4°或更大的夹角。

3.根据权利要求1所述的光学系统，包括位于物场中的将要成像的反射 物体。

4.根据权利要求1所述的光学系统，具有反射投影物镜。

5.根据权利要求1所述的光学系统，其中该非旋转对称表面在一个或多 个位置与最佳拟合旋转对称表面偏离入或更大。

6.根据权利要求5所述的光学系统，其中该最佳拟合非旋转对称表面相 对于对应于以下等式的表面偏离0.1λ或更小：

Z=cr21+1-(1+k)c2r2+Σj=2aCjXmYn]]>

其中

j=(m+n)2+m+3n2+1,]]>

Z为平行于Z轴的表面的垂度，c为顶点曲率，

X、Y为彼此垂直且垂直于Z轴的坐标；

r为距Z轴的距离，r²＝X²+Y²，并且k为圆锥常数，Cj为单项式X^mYⁿ的系数，m、n为0或正整数，并且α为整数。

7.根据权利要求5所述的光学系统，其中该非旋转对称表面在一个或多 个位置与最佳拟合旋转对称表面偏离10λ或更大。

8.根据权利要求5所述的光学系统，其中该非旋转对称表面在一个或多 个位置与最佳拟合旋转对称表面偏离20nm或更大。

9.根据权利要求1所述的光学系统，其中该多个元件限定了子午平面并 且这些元件相对于该子午平面镜像对称。

10.根据权利要求1所述的光学系统，其中该多个元件中的不超过两个 具有正主光线角放大率。