[发明专利]液流处理系统

权利要求书

1.一种液流处理系统，其特征在于，包括用于接收所述液流流量的壳体，所述壳体包括 液流进口、液流出口、设置于所述液流进口和所述液流出口之间的封闭液流处理区、以及 至少一个细长的辐射源装置，所述辐射源装置具有设置于所述液流处理区中与液流流经所 述壳体的方向基本上平行的纵轴，

其中，所述辐射源装置包括设置于保护套筒中以限定基本上呈环形的通道的细长的辐 射源，所述保护套筒具有相对的开口端，所述开口端被配置为允许热量通过所述套筒的相 对的开口端中的至少一个散出所述通道和所述壳体，

所述辐射源的近端包括第一定位部，所述第一定位部包括多个第一定位元件用以将所 述辐射源的近端定位为相对于所述保护套筒的近端基本上同心的第一定位部，

所述第一定位部包括：配置为接收所述辐射源的一对电接触元件的一对孔，以及设置 于所述一对孔之间、并且配置为减小所述辐射源的该对电接触元件之间电弧的屏部，

所述液流处理系统还包括用于接收在锁定位置的多个第一定位元件中至少一个的套筒 螺栓，所述套筒螺栓配置为以可移除方式与所述壳体连接，且该套筒螺栓配置为仅当多个 第一定位元件中的至少一个处于所述套筒螺栓中的锁定位置时才与电连接器导线连接。

2.如权利要求1所述的液流处理系统，其特征在于，所述辐射源包括只在其一端的电连 接器。

3.如权利要求1所述的液流处理系统，其特征在于，所述辐射源包括其内部表面上的金 属汞齐合成物。

4.如权利要求3所述的液流处理系统，其特征在于，所述金属汞齐合成物包括水银汞齐 合成物。

5.如权利要求3或4所述的液流处理系统，其特征在于，所述金属汞齐合成物设置于所 述辐射源的近端附近。

6.如权利要求3或4所述的液流处理系统，其特征在于，金属汞齐合成物设置于所述辐 射源的远端附近。

7.如权利要求1所述的液流处理系统，其特征在于，所述辐射源的远端包括配置为将所 述辐射源的远端定位为相对于保护套筒的远端基本上同心的第二定位部。

8.如权利要求7所述的液流处理系统，其特征在于，所述第二定位部包括多个第二定位 元件用以将所述辐射源的远端定位为相对于所述保护套筒的远端基本上同心。

9.如权利要求7或8所述的液流处理系统，其特征在于，所述第二定位部包括与设置在 所述辐射源的内部的金属汞齐合成物基本上对齐的开口区。

10.如权利要求9所述的液流处理系统，其特征在于，所述开口区具有包括封闭周界的形 状。

11.如权利要求9所述的液流处理系统，其特征在于，所述开口区具有包括开口周界的形 状。

12.如权利要求7所述的液流处理系统，其特征在于，所述第二定位部包括一对可移动部， 所述可移动部配置为可在其中开口区被遮蔽的第一位置和其中开口区处于全开放位置的 第二位置之间移动。

13.如权利要求7所述的液流处理系统，其特征在于，所述第二定位部包括一对可移动部， 所述可移动部配置为可在其中开口区被遮蔽的第一位置、其中开口区部分开放的至少一个 中间位置、以及其中开口区处于全开放位置的第二位置之间移动。

14.如权利要求7所述的液流处理系统，其特征在于，第二定位部包括一对可移动部，所 述可移动部配置为可在其中开口区被遮蔽的第一位置、其中开口区部分开放的多个中间位 置、以及其中开口区处于全开放位置的第二位置之间移动。

15.如权利要求12～14中任一项所述的液流处理系统，其特征在于，所述一对可移动部同 轴配置，并且可彼此相对旋转。

16.如权利要求14所述的液流处理系统，其特征在于，每一个可移动部包括开口部。

17.如权利要求16所述的液流处理系统，其特征在于，每一个可移动部中的开口部具有 基本上相同的形状。