[发明专利]压印方法和器件

权利要求书

1.一种在基片上形成压印结构的方法，该方法包括：

(i)将多个压印工具段施加到基片的至少一个表面上，

其中(i)包括将第一压印工具段施加到所述基片的至少一个表面上从而 形成第一子图案，和将第二压印工具段施加到所述基片的至少一个表面上从 而形成第二子图案，并且

其中第一子图案和第二子图案至少部分重叠。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述第一子图案和第二子图案相同。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述第一子图案和第二子图案在分 离的层上至少部分重叠。

4.如权利要求1-3任一项所述的方法，其中重叠结构位于两个基片的 相邻表面上。

5.如权利要求1-3任一项所述的方法，其中在同一基片的分离层上， 第一子图案和第二子图案重叠在分离的层上，并且其中，第一子图案和第二 子图案在重叠区域中接合到一起。

6.如权利要求1-3任一项所述的方法，其中(i)包括以下的一个或多个： 在基片的至少一个表面上压花、成形、切割、或沉积材料。

7.如权利要求6所述的方法，其中所述沉积材料包括以下的至少一个： 导电材料；装饰性的或保护性的涂层；用于表面处理的化学或生物学试剂； 包括至少部分致动器或传感器的材料；标记材料和光学材料。

8.如权利要求1-3任一项所述的方法，其中所述基片包括：硅；聚合 物；金属；金属氧化物；纸；硝化棉；玻璃；光致抗蚀剂；陶瓷；木材；织 物基的产品；和/或它们的组合。

9.如权利要求1-3任一项所述的方法，其中压印结构具有0.1至1000 微米的一维尺寸。

10.如权利要求1-3任一项所述的方法，其中所述基片是连续的片材。

11.如权利要求1-3任一项所述的方法，其中进一步包括选择性地用烘 箱、红外加热器、化学制品、紫外线灯、等离子体、激光和/或表面涂层中的 一个或多个预处理基片。

12.如权利要求1-3任一项所述的方法，其中进一步包括选择性地用红 外加热器、化学制品、紫外线灯、等离子体、激光、固化和表面涂层中的一 个或多个后期处理基片。

13.如权利要求1-3任一项所述的方法，其中压印结构通过由以下的一 个或多个制造出的结构在重叠区域中接合到一起：注射模塑；微铣；冲切； 激光加工；压花；热成型；印刷头沉积；和光刻。

14.如权利要求1-3任一项所述的方法，其中至少一个压印工具段在压 印结构的区域周围包括用于基片的额外宽的支撑件，以避免基片和相邻结构 的变形。

15.如权利要求1-3任一项所述的方法，其中至少一个压印工具段包括 用于去除相邻结构中不想要的图案变形的几何形状。

16.如权利要求1-3任一项所述的方法，其中至少一个压印工具段包括 与相邻图案重叠以允许构造过程中的材料流动的几何形状。

17.如权利要求1-3任一项所述的方法，其中至少一个压印工具段包括 在最靠近图案处制造临时结构的几何形状，以允许随后构造过程中的材料流 动。

18.一种在基片上形成压印结构的方法，该方法包括：

(i)将多个压印工具段施加到基片的至少一个表面上，其中(i)包括将第 一压印工具段施加到所述基片的至少一个表面上从而形成第一子图案，和将 第一压印工具段施加到所述基片的至少一个表面上从而形成第二子图案，并 且

其中第一子图案和第二子图案至少部分重叠。

19.如权利要求18所述的方法，其中所述第一子图案和第二子图案相 同。

20.如权利要求18所述的方法，其中所述第一子图案和第二子图案在 分离的层上至少部分重叠。