[发明专利]感光性组合物以及使用其的显示装置用遮光膜形成用材料以及感光性转印材料无效
| 申请号: | 200780010274.7 | 申请日: | 2007-03-01 |
| 公开(公告)号: | CN101405654A | 公开(公告)日: | 2009-04-08 |
| 发明(设计)人: | 吉村耕作;宫宅一仁;佐佐木广树 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G02B5/20;G03F7/033 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 朱 丹 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 感光性 组合 以及 使用 显示装置 遮光 形成 用材 材料 | ||
技术领域
本发明涉及感光性组合物以及适合形成使用该感光性组合物的彩色 滤光片的黑矩阵等的显示装置用遮光膜形成用材料以及感光性转印材料。
背景技术
近年来,为了提高显示图像的对比度,要求黑矩阵具有4.0以上的 高光学浓度。另一方面,如果黑矩阵的厚度较厚,使用其的彩色滤光片的 表面平滑性受损,所以需要黑矩阵构成为薄膜状。
一直以来,在具有高遮光性的显示装置用的黑矩阵的制作方法中,使 用金属的薄膜。在该方法中包括如下所述的工序,即在通过蒸镀法或溅射 法形成的铬等的金属薄膜上涂布光致抗蚀剂,接着,使用具有显示装置用 遮光膜用图案的光掩模,对光致抗蚀剂进行曝光、显影之后,对已露出的 金属薄膜进行蚀刻,最后将在金属薄膜残留的光致抗蚀剂剥离除去,由此 形成的工序(例如,参照非专利文献1)。
关于该方法,由于使用金属薄膜,即便膜厚小也可以得到高遮光效果, 另一方面,需要称之为蒸镀法或溅射法的真空成膜工序或蚀刻工序,存在 成本升高的问题。另外,通过该方法得到的黑矩阵是金属膜,所以也存在 反射率极高,在强烈的外光下显示对比度降低的问题。与这些相对应,也 提出了使用低反射铬膜(金属铬和氧化铬2层构成的膜等)的黑矩阵的制 作方法,但这些方法不可避免地导致成本进一步升高。此外,在还使用金 属薄膜的以往的方法中,通过蚀刻工序排出含有金属离子的废液,所以, 也有所谓环境负担大的缺点。特别是在这些方法中最常使用的铬,其不仅 有害,而且环境负担非常大。
另一方面,关于得到环境负担小的黑矩阵的技术之一,有使用炭黑的 方法(例如,参照专利文献1)。该方法包括在基板上涂布含有炭黑的感 光性树脂组合物,干燥,然后对其进行曝光、显影,形成黑矩阵的工序。
但是,炭黑由于每单位涂布量的光学浓度低,所以要想确保高遮光性、 光学浓度,含有炭黑的感光性树脂组合物的膜厚必然增大。例如,为了确 保与上述的金属膜同等的光学浓度4.0,含有炭黑的感光性树脂组合物 的膜厚为1.2~1.5μm。为此,对于含有炭黑的感光性树脂组合物, 在形成黑矩阵之后,如果形成红色、蓝色、绿色的像素,由于像素边缘部 的段差等而使得彩色滤光片的表面变得不平滑,存在所谓显示质量降低的 缺点。
除了上述以外,作为得到环境负担小、为薄膜且光学浓度高的黑矩阵 的方法,已知有使用金属粒子或具有金属的粒子代替炭黑的方法(例如, 参照专利文献2~3)。
通过该方法,可以得到环境负担小、为薄膜且光学浓度高的黑矩阵。
但是,使用了金属粒子或具有金属的粒子的黑矩阵,粒子在涂膜中容 易凝集。为此,存在通过该凝集状态无法得到足够的光学浓度或黑矩阵表 面粗糙等问题。
【专利文献1】特开昭62—9301号公报
【专利文献2】特开2004—240039号公报
【专利文献3】特开2005—17322号公报
【非专利文献1】《彩色TFT液晶显示器》p.218~p.22 0、共立出版(株)发行(1997年4月10日)
发明内容
本发明正是鉴于上述以往的问题点而完成的。本发明提供金属粒子或 具有金属的粒子在涂布液中的分散稳定性、黑矩阵等的图案形成性(碱显 影性、图案形状)、得到的图案的面状以及得到的图案的耐溶剂性出色, 可以形成薄膜、作为黑色感材高浓度的感光性组合物以及使用其的显示装 置用遮光膜形成用材料以及感光性转印材料。
即,<1>本发明提供一种感光性组合物,其含有:
金属粒子以及具有金属的粒子的至少一方、
碱可溶性树脂、
具有乙烯性不饱和双键的加成聚合性单体、以及
光聚合引发剂,
在这里,该碱可溶性树脂是含有用下述通式(1)表示的至少1种重 复单元B30~90质量%、酸值为50mg KOH/g以上、I/O值 为0.45~0.65的共聚物。
通式(1)
【化1】
在通式(1)中,R1表示氢原子或甲基,R2表示可以具有环结构或 支链结构的碳数2~8的烷基。
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