[发明专利]控制氢气的膜处理的方法

权利要求书

1.一种借助渗氢分离膜处理至少包含氢气和包含至少一种其它化合 物的气体的方法，其中使待处理气体与所述膜接触，从而产生富氢渗透物 和贫氢滞留物，其特征在于，调整穿过膜的压差从而使具有下式的比率R

R=QrQ(1FH2)n]]>

其中：

-Qr为滞留物流速，

-Q为待处理气体流速，

-F_H2为待处理气体中氢气浓度的特征量，

-n严格为正或负的小数，

等于或大于滞留物中存在的至少一种化合物冷凝时的比率R_min的值。

2.如权利要求1所要求的方法，其特征在于，穿过膜的压差通过控制 渗透物的压力来调整，优选借助在所述膜下游的渗透管线上设置的阀来调 整。

3.如权利要求1所要求的方法，其特征在于，穿过膜的压差通过控制 待处理气体的压力来调整，优选借助在所述膜上游的渗透管线上设置的阀 来调整。

4.如前述权利要求中任一项所要求的方法，其特征在于，F_H2为选自 待处理气体的氢气浓度和待处理气体的摩尔密度的量。

5.如前述权利要求中任一项所要求的方法，其特征在于，比率R公式 中的指数n的值通过采取下述步骤而确定：

a-确定所述膜中可用滞留物的露点的最高温度T_Max，

b-对于各种类型的具有流速Q和不同的氢气浓度特征量F_H2的待处 理气体，确定最佳的滞留物流速Qr，从而在保持滞留物的露点T低于T_Max的同时使穿过膜的压差最大，

c-计算n值，从而使露点T可以与步骤b中检测的各种类型的气体 的R值相关。

6.如前述权利要求中任一项所要求的方法，其特征在于，调整穿过膜 的压差从而使比率R等于比率R_min。

7.如前述权利要求中任一项所要求的方法，其特征在于，该方法处理 包含具有超过4个碳原子的烃的气体。