[发明专利]基于非均相聚偏二氟乙烯的挤出助剂有效
| 申请号： | 200780006550.2 | 申请日： | 2007-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN101389703A | 公开（公告）日： | 2009-03-18 |
| 发明（设计）人： | 安东尼·邦尼特;约翰·拉法格;弗朗索瓦·博米 | 申请（专利权）人： | 阿克马法国公司 |
| 主分类号： | C08L23/00 | 分类号： | C08L23/00;C08K5/00;C08L27/16 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋 莉 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 均相 聚偏二氟 乙烯 挤出 助剂 | ||
1.一种加工助剂，其包含：
●至少一种非均相PVDF(A)，即VDF与至少一种VDF的共聚单体的共 聚物，该非均相PVDF含有至少75重量％的VDF，该非均相PVDF的熔点 MP大于(172-549m)℃，其中m表示共聚单体的总摩尔百分数；和
●至少一种界面活性剂(B)，
●任选的用以进行稀释的聚烯烃(C)，
其中(A)和(B)的各自重量比例使得(A)/(B)在30/70到70/30之间。
2.权利要求1的加工助剂，其中该非均相PVDF的熔点MP大于1.1× (172-549m)℃。
3.根据权利要求1的加工助剂，其中该非均相PVDF(A)的MP在 (172-340m)℃和172℃之间，其中m表示共聚单体的总摩尔百分数。
4.根据权利要求3的加工助剂，其中该非均相PVDF(A)的MP在 (172-269m)℃和172℃之间，其中m表示共聚单体的总摩尔百分数。
5.根据权利要求4的加工助剂，其中该非均相PVDF(A)的MP在 (172-203m)℃和172℃之间，其中m表示共聚单体的总摩尔百分数。
6.根据权利要求5的加工助剂，其中该非均相PVDF(A)的MP在 (172-138m)℃和172℃之间，其中m表示共聚单体的总摩尔百分数。
7.根据权利要求1的加工助剂，其中相对于80到99％的VDF，该非均 相PVDF包含1到20％的至少一种共聚单体。
8.根据权利要求2的加工助剂，其中相对于80到99％的VDF，该非均 相PVDF包含1到20％的至少一种共聚单体。
9.根据权利要求3的加工助剂，其中相对于80到99％的VDF，该非均 相PVDF包含1到20％的至少一种共聚单体。
10.根据权利要求4的加工助剂，其中相对于80到99％的VDF，该非均 相PVDF包含1到20％的至少一种共聚单体。
11.根据权利要求5的加工助剂，其中相对于80到99％的VDF，该非均 相PVDF包含1到20％的至少一种共聚单体。
12.根据权利要求6的加工助剂，其中相对于80到99％的VDF，该非均 相PVDF包含1到20％的至少一种共聚单体。
13.根据权利要求7的加工助剂，其中相对于85到99％的VDF，该非均 相PVDF包含1到15％的至少一种共聚单体。
14.根据权利要求8的加工助剂，其中相对于85到99％的VDF，该非均 相PVDF包含1到15％的至少一种共聚单体。
15.根据权利要求9的加工助剂，其中相对于85到99％的VDF，该非均 相PVDF包含1到15％的至少一种共聚单体。
16.根据权利要求10的加工助剂，其中相对于85到99％的VDF，该非 均相PVDF包含1到15％的至少一种共聚单体。
17.根据权利要求11的加工助剂，其中相对于85到99％的VDF，该非 均相PVDF包含1到15％的至少一种共聚单体。
18.根据权利要求12的加工助剂，其中相对于85到99％的VDF，该非 均相PVDF包含1到15％的至少一种共聚单体。
19.根据权利要求13的加工助剂，其中相对于85到95％的VDF，该非 均相PVDF包含5到15％的至少一种共聚单体。
20.根据权利要求14的加工助剂，其中相对于85到95％的VDF，该非 均相PVDF包含5到15％的至少一种共聚单体。
21.根据权利要求15的加工助剂，其中相对于85到95％的VDF，该非 均相PVDF包含5到15％的至少一种共聚单体。
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