[发明专利]雷帕霉素的制备方法无效
| 申请号: | 200780003419.0 | 申请日: | 2007-01-22 |
| 公开(公告)号: | CN101374847A | 公开(公告)日: | 2009-02-25 |
| 发明(设计)人: | M·阿克莫格鲁;S·普费弗 | 申请(专利权)人: | 诺瓦提斯公司 |
| 主分类号: | C07D498/18 | 分类号: | C07D498/18 |
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 林柏楠;黄革生 |
| 地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 霉素 制备 方法 | ||
本发明涉及有机化合物的制备方法,例如包括有机化合物的盐及其制 备方法。
在WO9641807中,特别描述了下式的化合物
其中
R1是烷基、烯基、炔基、羟烷基、羟烯基、羟炔基、苄基、烷氧基苄基或 氯苄基,
R2选自下式的基团
或
其中
R3选自H、烷基、烯基、炔基、芳基、芳基烷基、羟芳基烷基、羟芳基、 羟烷基、二羟基烷基、羟基烷氧基烷基、羟烷基芳基烷基、二羟基烷基芳 基烷基、烷氧基烷基、烷基羰氧基烷基、氨基烷基、烷基氨基烷基、烷氧 基羰基氨基烷基、烷基羰基氨基烷基、芳基磺酰基氨基烷基、烯丙基、二 羟基烷基烯丙基、二氧戊环基烯丙基、烷氧羰基烷基和烷基甲硅烷基;
R4是H、甲基或与R3一起形成C2-6亚烷基;
R5是R6O-CH2-,其中
R6选自H、烷基、烯基、炔基、芳基、烷基羰基、芳基羰基、杂芳基羰基、 羟烷基羰基、氨基烷基羰基、甲酰基、芳基烷基、羟芳基烷基、羟芳基、 羟烷基、二羟基烷基、羟基烷氧基烷基、羟烷基芳基烷基、二羟基烷基芳 基烷基、烷氧基烷基、烷基羰氧基烷基、氨基烷基、烷基氨基烷基、烷氧 基羰基氨基烷基、烷基羰基氨基烷基、芳基磺酰基氨基烷基、烯丙基、二 羟基烷基烯丙基、二氧戊环基烯丙基和烷氧羰基烷基;
R7CO-,其中
R7选自H、烷基、羟基、烷氧基、芳氧基、氨基、烷基氨基或N,N-二取代 氨基,其中取代基选自烷基、芳基或芳基烷基;
R8NCH-,其中R8是烷基、芳基、氨基、烷基氨基、芳基氨基、羟基、烷 氧基或芳基磺酰基氨基;-O-CH-O-或取代的二氧次甲基(dioxymethylyne); Y选自O、(H,OH)和(H,OR9),其中
R9选自C1-4烷基、烷基羰基、芳基羰基、杂芳基羰基、羟烷基羰基、氨基 烷基羰基、甲酰基或芳基;和
X是H或OH。
在WO9641807中,另外描述了获得其中残基如上所定义的式I的化 合物的方法。生产其中X为H的式I的化合物的关键步骤是还原式I的化 合物中位置32的羰基,其中羰基代替X和H连接到位置32的C原子上。
根据WO9641807,所述方法可根据许多不同的方法进行,例如 为了生产其中X为H的式I的化合物,通过还原其中R1、R2和Y如上定 义的下式的化合物的位置32上的羰基官能团,
所述化合物呈被保护的形式或未被保护形式,并且,在需要的情况下,例 如除去存在的保护基团,并且任选将其中R1为烷基的获得的式I的化合物 转化以提供其中R1不同于烷基的式I的化合物,例如通过
(a)还原为式I的32-脱氧化合物可方便地通过以下反应顺序进行,即
i)通过使优选呈被保护形式的式IVa的化合物与氢化物,例如氢化二异丁 基铝或优选氢化锂三叔丁氧基铝反应生产相应的32-羟基化合物(OH基团 在环结构的位置32上),
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