[发明专利]反射膜用Al－Ni－B合金材料

说明书

技术领域

本发明涉及在构成液晶等显示器时使用的铝类合金材料，特别涉及适合反射型液晶显示器的反射膜形成用Al-Ni-B合金材料。

背景技术

关于以液晶显示器为代表的薄型电视机等显示器，已知有反射型和透射型，上述反射型显示器一直以来采用反射率高的纯铝膜。但是，若将上述纯铝作为反射膜使用，则在与ITO(氧化铟锡)或IZO(氧化铟锌)等透明电极(以下有时称为透明电极层)接合的情况下，在反射膜上形成图案时会产生由电化学反应引起的电蚀现象，很难形成满足实用特性的电路等。

因此，采用反射率高、抗电化学腐蚀性强的银或银合金作为反射膜用材料，以代替上述纯铝(专利文献1)。但是，银类反射膜用材料由于受其蚀刻特性的影响，难以形成所需的电路，存在生产率下降的可能性。

鉴于此，有人提出采用能抑制图案形成中的电蚀现象的铝合金材料(专利文献2)，但是，对于用该现有技术文献所述的铝合金材料形成的膜的反射率特性以及接合时的电特性等都还不清楚。另外，还有人提出采用能与ITO等透明电极层直接接合的铝合金材料(专利文献3、专利文献4)，但并未对用上述现有技术文献的铝合金材料形成的膜的反射率特性进行探讨，目前关于其是否具备实用的反射率特性也还不明确。

专利文献1：日本专利第3302894号说明书

专利文献2：国际公开WO97/13885号小册子

专利文献3：日本专利特开2003-89864号公报

专利文献4：日本专利特开2004-214606号公报

发明的揭示

本发明是鉴于上述背景情况而完成的发明，涉及反射型显示器，提供具有优异的反射特性并能与ITO或IZO等透明电极层直接接合的反射膜用铝类合金材料。

本发明的在铝中含有镍和硼的反射膜用Al-Ni-B合金材料的特征在于，含有1.5at％～4at％的镍和0.1at％～0.5at％的硼，其余部分为铝。

而且，本发明的反射膜用Al-Ni-B合金材料优选镍含量为1.5at％～3at％，硼含量为0.1at％～0.4at％。

另外，本发明的具有用上述反射膜用Al-Ni-B合金材料形成的反射膜层和透明电极层的反射型显示器的元件结构中，具有反射膜层与透明电极层直接接合的部分。

用本发明的Al-Ni-B合金材料形成反射膜时，优选使用含有1.5at％～4at％的镍和0.1at％～0.5at％的硼且其余部分为铝的溅镀靶材。

附图的简单说明

图1是ITO膜与反射膜交叉层叠而成的试验样品的简单立体图。

实施发明的最佳方式

下面，对本发明的最佳实施方式进行说明，但本发明不限于下述实施方式。

本发明者对Al-Ni类合金进行了潜心研究，结果发现：通过使Al-Ni合金含有规定量的硼(B)，可得到具有优异的反射特性且能抑制图案形成中的电蚀现象的反射膜用Al-Ni-B合金材料。

具体为含有1.5at％～4at％的镍和0.1at％～0.5at％的硼且其余部分为铝的反射膜用Al-Ni-B合金材料。若是由上述组成的反射膜用Al-Ni-B合金材料形成的反射膜，则在250℃的退火处理后，具有87％以上的反射率，同时还具有4.5μΩ·cm以下的低电阻特性，且反射膜自身不会产生隆起(突起物)或凹陷(凹坑状缺陷)等塑性变形。而且，上述组成的反射膜能抑制透明电极层与反射膜层直接接合时的电蚀现象。另外，本发明的反射膜用Al-Ni-B合金材料在本发明所具有的效果的范围内，例如，不能阻止在材料制造工序或布线电路形成工序或元件制造工序等中混入有可能混入的气体成分之类的不可避免的杂质。本申请的“反射膜用Al-Ni-B合金材料”这一用语包括反射膜自身、其原料例如用于形成反射膜的溅镀靶材、利用该溅镀靶材成膜得到的溅射膜。

当镍含量不足1.5at％时，无法确保反射膜的耐热性。而且，若镍含量不足0.5at％，则与ITO等透明电极层的直接接合特性有可能下降。当镍含量超过4at％时，反射膜的电阻值有可能超过4.5μΩ·cm。另外，若硼含量不足0.1at％，则无法确保反射膜的耐热性。若硼含量超过0.5at％，则反射率不足87.0％。本发明中的反射膜耐热性指在250℃、30分钟的热处理中反射膜不产生隆起(突起物)或凹陷(凹坑状缺陷)等塑性变形。

本发明中的反射率指由在反射膜上照射波长550nm的光时从反射膜反射的光强度算出的绝对反射率。在经250℃、30分钟热处理后的反射膜上测定该反射率。