[发明专利]磁盘用玻璃衬底的制造方法和磁盘的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及磁盘用玻璃衬底的制造方法和磁盘的制造方法。

背景技术

所谓磁盘是在硬盘驱动器上安装的磁记录介质。在盘状的衬底上 依次层叠基底层、磁性层、保护层、润滑层来制造磁盘。

磁盘的重要的部件之一是衬底。由于反映衬底的表面形状地形成 了磁性层，故磁盘的表面形状是根据衬底的表面形状来决定的。

在硬盘驱动器中，作为信息的记录重放装置的磁头通过一边在作 为信息的存储装置的磁盘上维持狭窄的浮起量一边高速地移动，从而 进行信息的写入、读出。如果磁头与磁盘接触，则可能成为重大的事 故。通过降低磁头的浮起量，可提高在磁盘中记录的信息的记录密度， 但为了降低磁头的浮起量，磁盘的表面必须是平滑的。

因而，为了提高硬盘驱动器的性能，磁盘的表面必须是平滑的。 为了使磁盘的表面变得平滑，衬底必须是平滑的。

如果这样的观点成立，则作为在硬盘驱动器上安装的磁盘用衬 底，玻璃衬底的有用性高。这是因为玻璃衬底可以使表面变得平滑。

关于磁盘用玻璃衬底，例如已知有下述的那样的文献。例如，已 知有作为日本公开专利公报的特开平7-240025号。

在该文献中公开了研磨盘衬底表面的超研磨法。具体地说，公开 了将胶体二氧化硅浆液的硫酸溶液的PH调整为例如约0.6～0.9的酸 性来研磨玻璃衬底的技术。在该文献中，公开了下述的观点：在控制 从盘衬底去除衬底材料的速度时注意最终的pH和成分浓度是重要 的。在该文献中公开了含有具有不到4埃的表面粗糙度的衬底材料的 磁盘衬底。再有，作为与该文献同样的文献，有美国专利公报 US6,236,542号公报、US6,801,396号公报。

作为其它的文献，已知有日本公开专利公报特开平10-241144 号。在该文献中公开了关于使用胶体二氧化硅研磨液来研磨信息记录 介质用玻璃衬底的技术。再有，作为与该文献同样的文献，有美国专 利公报US6,277,465号公报、US6,877,343号公报。

同样，已知有日本公开专利公报特开2004-063062号。在该文 献中，在信息记录介质用玻璃衬底的研磨中，将以二氧化硅(SiO₂) 为主要成分、平均粒径小于等于100nm的粒子的悬浊液作为研磨剂来 使用，分成用pH小于等于4的酸性的研磨剂研磨玻璃衬底的研磨工 序和用pH大于等于8.5的碱性的研磨剂研磨玻璃衬底的研磨工序这 两个工序进行了研磨处理。作为与该文献同样的文献，有美国专利申 请公开US2003/0228461号公报。

专利文献1：日本专利特开平7-240025号公报

专利文献2：美国专利US6,236,542号公报

专利文献3：美国专利US 6,801,396号公报

专利文献4：日本专利特开平10-241144号公报

专利文献5：美国专利US6,277,465号公报

专利文献6：美国专利US6,877,343号公报

专利文献7：日本专利特开2004-063062号公报

专利文献8：美国专利申请公开US2003/0228461号公报

发明内容

(发明要解决的课题)

但是，在最近的磁盘中，需要例如以大于等于每平方英寸100 千兆比特的高的记录密度来存储信息。迄今为止，硬盘驱动器作为个 人计算机的外部存储装置来利用，但最近用作了记录影像信号的存储 器，其利用范围急剧地扩大了。因此，需要存储的信息量急剧地增大 了。

作为用于对应该需求的第1方法，有增加磁盘表面的每单位面积 的存储信息容量以便有效地利用有限的盘面积的方法。

为了实现这样的高的记录密度，有必要将磁头的浮起量定为例如 小于等于8nm。这是因为，如果进一步降低磁头的浮起量，则记录信 号的S/N比提高了。因此，有必要将磁盘的滑行高度定为4nm或低 于该值。所谓磁盘的滑行高度小于等于4nm，即意味着即使磁头以浮 起量4nm在磁盘上浮起飞行，也不会与磁盘接触，不产生碰撞的问题。

此外，作为另外的第2方法，有扩大磁盘的信息记录重放用区域 的方法。通过将记录重放用区域扩大到盘的外边缘附近，可有效地增 大在每1片磁盘中可存储的信息量。因此，即使是磁盘的主表面的外 边缘附近，也有必要使磁头不与磁盘接触并不产生碰撞问题。