[实用新型]一种抛光垫调节器及具有抛光垫调节器的化学机械装置

权利要求书

1.一种抛光垫调节器，其特征在于，包括：

(a)基板，

(b)所述基板上的调节面，所述调节面包括彼此隔开并位于非研磨栅格中的研磨方块的阵列。

2.根据权利要求1所述的抛光垫调节器，其特征在于，所述研磨方块具有包括金刚石粒子的研磨粒子。

3.一种具有抛光垫调节器的化学机械装置，包括如权利要求1所述的抛光垫调节器，其特征在于，还包括：

(i)抛光台，其包括保持抛光垫的台板、保持衬底抵靠所述抛光垫的支撑件、为所述台板或支撑件提供动力的驱动器、以及在所述抛光垫上分散浆液的浆液分散器；

(ii)接纳如权利要求1所述的垫调节器的调节器头；和

(iii)驱动器，其为所述调节器头提供动力以使得所述抛光垫调节器的所述调节面可以抵靠着所述抛光垫摩擦来调节所述抛光垫。