[实用新型]气体注入喷嘴有效
申请号: | 200720181418.2 | 申请日: | 2007-10-29 |
公开(公告)号: | CN201182036Y | 公开(公告)日: | 2009-01-14 |
发明(设计)人: | 马德哈唯·R·钱德拉乔德;迈克尔·N·格林博金;吉姆·K·尼古恩;理查德·莱温顿;伊伯拉希姆·M·伊伯拉希姆;希巴·J·潘纳伊尔;阿杰伊·库玛 | 申请(专利权)人: | 应用材料股份有限公司 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46;G03F1/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气体 注入 喷嘴 | ||
1、一种气体注入喷嘴,其适于与等离子体反应器中的气体分布环模制联 接,其特征在于,包括:
具有第一外直径部分和限定顶部的第二外直径部分的中空圆柱体,第一通 道纵向穿过该圆柱体并通过第一外直径部分延伸并至少部分进入第二外直径 部分中,以及第二通道与第一通道同轴地对准并从第一通道的端部向顶部的端 部纵向延伸,其中第一外直径部分大于第二外直径部分。
2、根据权利要求1中的喷嘴,其特征在于,设置在第二外直径部分中的 侧通道与第一通道连通。
3、根据权利要求1中的喷嘴,其特征在于,第一通道的直径比第二通道 的直径大四倍。
4、根据权利要求1中的喷嘴,其特征在于,中空圆柱体包括从第二外直 径部分向第一外直径部分直角延伸的径向面。
5、根据权利要求4中的喷嘴,其特征在于,该径向面包括环形凹槽。
6、根据权利要求1中的喷嘴,其特征在于,该中空圆柱体由陶瓷材料制 成。
7、一种气体注入喷嘴,其适于与等离子体反应器中的气体分布环模制联 接,其包括:
具有第一外直径部分和小于第一外直径部分的第二外直径部分的中空圆 柱体,第一通道设置为穿过第一外直径部分并以90°的界面向穿过第二直径 部分设置的第二通道转折,以及联接第一外直径部分与第二外直径部分的径向 面,其特征在于,第一外直径部分大于第二外直径部分大约50%。
8、根据权利要求7中的喷嘴,其特征在于,该径向面设置为垂直第二外 直径部分。
9、根据权利要求7中的喷嘴,其特征在于,径向面包括环形凹槽。
10、根据权利要求9中的喷嘴,其特征在于,环形凹槽具有16μm的平 均表面粗糙度。
11、根据权利要求9中的喷嘴,其特征在于,该中空圆柱体由陶瓷材料 制成。
12、根据权利要求9中的喷嘴,其特征在于,该第一通道的直径大于第 二通道的直径大约4倍。
13、根据权利要求9中的喷嘴,其特征在于,设置在第二外直径部分的 侧通道与第一通道连通。
14、一种气体注入喷嘴,其适于与等离子体反应器中的气体分布环模制联 接,其特征在于,其包括:
具有第一外直径部分和限定顶部的第二外直径部分的中空圆柱体,其中第 一外直径部分大于第二外直径部分,纵向穿过此圆柱体形成的第一通道延伸通 过第一外直径部分并且至少部分进入到第二外直径部分,第二通道与第一通道 同轴地对准并且与第一通道以90°的界面转折,并且从第一通道的端部向顶 部的端部纵向延伸,设置在第二外直径部分的侧通道与第一通道连通,其中第 一通道的直径大于第二通道的直径四倍。
15、根据权利要求14中的喷嘴,其特征在于,第一外直径部分和第二外 直径部分包括具有32μm的平均表面粗糙度的表面。
16、根据权利要求14中的喷嘴,其特征在于,中空圆柱体包括从第二外 直径部分向第一外直径部分直角延伸的径向面。
17、根据权利要求16中的喷嘴,其特征在于,径向面包括环形凹槽。
18、根据权利要求17中的喷嘴,其特征在于,环形凹槽具有16μm的平 均表面粗糙度。
19、根据权利要求14中的喷嘴,其特征在于,中空圆柱体由陶瓷材料制 成。
20、根据权利要求14中的喷嘴,其特征在于,中空圆柱体由氧化铝材料 制成。
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