[实用新型]雾化装置及设有该装置的餐具清洗机有效
| 申请号: | 200720152681.9 | 申请日: | 2007-07-13 |
| 公开(公告)号: | CN201073289Y | 公开(公告)日: | 2008-06-18 |
| 发明(设计)人: | 乾浩章 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号: | A47L15/00 | 分类号: | A47L15/00 |
| 代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 雾化 装置 设有 餐具 清洗 | ||
1.一种雾化装置,其特征在于包括:
设置成用于贮存液体的水箱,
设有暴露在所述水箱内、与所述液体发生接触而且与垂直方向基本上平行的振动面的振荡器,
设置在所述水箱内、位于所述液体中而且将所述振荡器的所述振动面产生的振动能量朝着所述液体的液面向上方反射的反射单元。
2.如权利要求1中所述的雾化装置,其特征在于:由所述反射单元加以反射的所述振动能量使所述液体的所述液面隆起,并使所述液体雾化。
3.如权利要求1中所述的雾化装置,其特征在于:所述反射单元由金属或者玻璃制成。
4.如权利要求1中所述的雾化装置,其特征在于:所述反射单元和所述水箱构成一体。
5.如权利要求4中所述的雾化装置,其特征在于:所述反射单元由金属或者玻璃制成。
6.如权利要求1中所述的雾化装置,其特征在于:所述反射单元具有使所述的经反射后的振动能量发生收敛的凹面形状部。
7.如权利要求6中所述的雾化装置,其特征在于:所述凹面形状部凹陷成球面状。
8.如权利要求1中所述的雾化装置,其特征在于还设有用于检测所述液体的水位的水位检测单元。
9.如权利要求8所述的雾化装置,其特征在于还设有控制装置,控制装置在所述水位检测单元检测到所述液体的所述液面比规定的下限水位高时,使所述振荡器振动;而当所述水位检测单元检测到所述液体的所述液面比所述规定的下限水位低时,使所述振荡器不发生振动。
10.如权利要求1中所述的雾化装置,其特征在于:所述反射单元中对所述振动能量进行反射的部分为镜面。
11.如权利要求1中所述的雾化装置,其特征在于:所述振动能量具有超声频率。
12.如权利要求1所述的雾化装置,其特征在于:所述液体为含有清洗剂的清洗剂溶液。
13.一种餐具清洗机,其特征在于包括:
设置成用于收容被清洗物的清洗槽;
将清洗水朝所述被清洗物喷射的清洗喷嘴;和
如权利要求1中所述的雾化装置,
所述雾化装置使所述液体发生飞散,并沾附到所述被清洗物上。
14.如权利要求13所述的餐具清洗机,其特征在于:所述液体为浓度比所述清洗水高的清洗剂溶液。
15.如权利要求13中所述的餐具清洗机,其特征在于还设有用于检测所述清洗水的水位的水位检测单元、和使所述水箱和所述清洗槽之间发生连通的缺口部,
所述水位检测单元通过所述缺口部对所述水箱中的所述液体的水位进行检测。
16.如权利要求15中所述的餐具清洗机,其特征在于还设有控制装置,所述控制装置在所述水位检测单元检测到所述液体的所述液面比规定的下限水位高时使所述振荡器发生振动,在所述水位检测单元检测到所述液体的所述液面比所述规定的下限水位低时使所述振荡器不发生振动。
17.如权利要求15中所述的餐具清洗机,其特征在于:被所述反射单元反射后的所述振动能量使所述液体的所述液面隆起,生成由所述液体形成的液柱,使所述液体雾化。
18.如权利要求17中所述的餐具清洗机,其特征在于还设有将所述液柱回收到所述水箱内的回收单元。
19.如权利要求18中所述的餐具清洗机,其特征在于:所述回收单元和所述反射单元被构成一体。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200720152681.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种便于组装和拆卸的多功能组合台柜
- 下一篇:一种药品包装板





