[实用新型]旋转喷射等离子表面处理装置有效

专利信息
申请号: 200720144272.4 申请日: 2007-10-26
公开(公告)号: CN201119113Y 公开(公告)日: 2008-09-17
发明(设计)人: 姚志旭;朱伟锋;佘宣东 申请(专利权)人: 姚志旭;朱伟锋;佘宣东;周巍
主分类号: H05H1/34 分类号: H05H1/34
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 代理人: 丁纪铁
地址: 200135上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 旋转 喷射 等离子 表面 处理 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种利用气体电弧放电实现的等离子表面处理装置,尤其涉及一种旋转式的等离子表面处理装置。

背景技术

在现有技术中,等离子表面处理装置一般都是运用二个处在同一平面上,且方向相对的固定电极之间的气体放电的结构来实现的。由于这种电弧放电方式具有在常压下运行的特点,因此已在许多领域内使用。

但是,由于这种现有的等离子表面处理装置在放电时产生的电弧不稳定,且为点对点的放电模式能够电离空气的区域仅发生在二点之间的一条线上,这样只有部分空气被电离,所以所形成的等离子密度较小,因此当用等离子气体处理工件表面时,处理效果就比较差,或者根据就没有产生处理效果;另外,由于电弧放电电离空气时,空气中的正负离子会四处流动形成电流,因此会在电极周围20厘米范围内形成感应磁场,从而引起静电感应;除此以外,固定喷嘴09孔处理面积小,而且等离子气体的温度可达150摄氏度,对热敏性材料的表面处理可能发生热损伤。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种旋转喷射等离子表面处理装置,可产生高等离子密度、无静电感应、处理面积大,且等离子气体温度较低的等离子体射流,从而能够达到更好的工件表面处理效果,提高处理效率。

为解决上述技术问题,本实用新型提供了一种旋转喷射等离子表面处理装置,包括:地电极04,且该地电极04的内部为一空心的腔体,并且该地电极04与一主动电机01传动连接在一起;在所述地电极04底部腔壁的中轴线处设有喷嘴09,并且该喷嘴09的中心线与所述中轴线间具有一夹角;一正电极09与电源相连,且该正电极09固定在所述地电极04腔体内的中轴线处,而且该正电极09的底部与所述地电极04的底部腔壁的距离为该正电极09顶部直径的1~2倍。

本实用新型由于采用了上述技术方案,具有这样的有益效果,即通过将电弧放电的两个电极分别设计成固定的正电极09和可旋转的地电极04,使得当所述正电极09和地电极04之间进行电弧放电时,放电区域呈圆锥形,且该放电区域的截面呈圆形或圆环形,从而增加了等离子体射流密度,进而提高了对工件表面的处理效果;另外,由于喷嘴09设计成以一定的夹角外倾,因此大大提升了对工件的处理面积,提到了工件表面的处理效率;并且,由于地电极04是可旋转的,使得等离子体射流在旋转时可不断与环境中的冷空气接触,从而起到了降低等离子体射流温度的目的,避免了对热敏材料表面进行改性处理时引起热损伤,扩大本实用新型所述装置所适用材料的范围;另外,等离子体射流从喷嘴09中混合喷射出时,被电离的正负离子及中性粒子总体呈电中性,因此避免了静电感应情况的发生。该装置还具有结构简单,易于实现的特点。

附图说明

下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明:

图1为本实用新型所述旋转喷射等离子表面处理装置一个实施例的结构示意图;

图2为本实用新型所述旋转喷射等离子表面处理装置另一实施例的结构示意图。

具体实施方式

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