[实用新型]真空设备的排气管道

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种排气管道，具体涉及一种真空设备的排气管道。

背景技术

半导体集成电路制造中的干法刻蚀工艺是在真空状态下实现的。目前所使用的刻蚀设备的排气系统结构如图1所示，包括两路管道，一路是由干泵、第一真空计、粗抽阀组成的粗抽排气管道，另一路是由干泵、第一真空计、气动阀、分子泵、遮断阀组成的细抽排气管道。根据不同的工艺情况，可在管道和阀门上加装加热带。

工作时，先关闭气动阀，打开粗抽阀，通过粗抽排气管道使工艺腔内的真空度达到规定的要求后，即可进行刻蚀工艺。在工艺过程中，关闭粗抽阀，打开气动阀，通过细抽排气管道进行排气。

由于刻蚀工艺过程中不通过粗抽排气管道排气，因此粗抽排气管道通常不会发生刻蚀生成物的堵塞问题。而细抽排气管道是刻蚀工艺过程中使用的排气通道，刻蚀反应生成物会逐渐附着到细抽排气管道的内壁，时间久了，就会发生管道堵塞，导致停机。

有些工艺的反应生成物多而且呈粘稠状，很容易附着在管道内壁上，使管道堵塞，造成停机事故。由于堵塞可能发生在细抽排气管道的任意一处，清洗时需将整条细抽排气管道都进行清洗，因此需要清洗的排气管道长，清洗工作量大，给故障调查和解决带来了很大困难。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种真空设备的排气管道，它可以避免因刻蚀生成物堵塞排气管道而导致的设备停机问题，提高设备的生产能力。

为解决上述技术问题，本实用新型真空设备的排气管道的技术解决方案为：

包括两路管道，一路是由干泵、第一真空计、粗抽阀组成的粗抽排气管道，另一路是由干泵、第一真空计、气动阀、分子泵、遮断阀组成的细抽排气管道；其中：在气动阀与第一真空计之间设置有第二真空计和由两路并联管道组成的排气系统，每路并联排气管道上各设置有两个阀门；除每路并联排气管道上的两个阀门之间的管道之外，其它管道外均设置有加热带。

进一步，所述并联管道上的四个阀门，是手动阀。

进一步，所述并联管道上的四个阀门，是气动阀；所述第一真空计与第二真空计之间设置有压差计，压差计连接控制系统，控制系统与并联排气管道上的四个阀门连接。

本实用新型可以达到的技术效果是：

使刻蚀生成物集中附着在并联管道支路上的两个阀门之间的管道上，而管道的其余部分就不容易发生堵塞，因而可以降低清洗工作量，便于清洗。由于设置了备用管道，解决故障、清洗管道时无需将生产设备停止下来，因而可实现不停机清洗管道，提高设备的使用效率，降低设备的故障率，提高设备的生产能力。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明：

图1是现有技术中排气系统的示意图；

图2是本实用新型真空设备的排气管道具体实施方式之一的示意图；

图3是本实用新型真空设备的排气管道具体实施方式之二的示意图。

具体实施方式

如图2所示，本实用新型真空设备的排气管道包括两路管道，一路是由干泵、第一真空计、粗抽阀组成的粗抽排气管道，另一路是由干泵、第一真空计、气动阀、分子泵、遮断阀组成的细抽排气管道。在气动阀与第一真空计之间设置有第二真空计和由两路并联管道组成的排气系统，每路并联排气管道上各设置有两个阀门。每路并联排气管道上的两个阀门之间的管道外(即阀1与阀2之间，以及阀3与阀4之间的管道)不加加热带，其它管道外均设置有加热带。

并联排气管道上的四个阀门，可以是手动阀。

在工艺过程中，将其中一路管道上的阀门打开(如打开阀1、阀2)，另一路上的阀门关闭(关闭阀3、阀4)，将阀1、阀2所在的管道作为设备的排气通道。由于两个手动阀阀1、阀2间的管道不加热，其内壁温度较其它部位低，刻蚀生成物就容易附着在阀1、阀2间的这一段管道上，因而管道其余部分就不容易发生堵塞。当阀1、阀2所在的管道被完全堵塞前，将阀3、阀4所在另一路管道打开，然后把即将堵塞的一路管道关闭，将阀3、阀4所在的管道作为设备的排气通道。此时，可对即将堵塞的一路管道进行在线清洗。

在工艺过程中可以通过第一、第二两个真空计上显示的压差来判断管道是否即将发生堵塞，从而决定是否需要切换到另外一路管道。由于在排气管道上有第一、第二两个真空计，当管道畅通时，两个真空计的压差不会很大；而当管道堵塞时，两个真空计间的压力差就会变大，观察两个真空计间的压力差，当压力差达到一定数值时，将排气管道切换到另一路。