[实用新型]满足LED灯具在被照射物体上照度分布要求的装置无效
申请号: | 200720103937.7 | 申请日: | 2007-03-23 |
公开(公告)号: | CN201028335Y | 公开(公告)日: | 2008-02-27 |
发明(设计)人: | 陈建新;刘国富;门伟刚;贺卫利 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | F21S2/00 | 分类号: | F21S2/00;F21V19/00;F21V5/04;F21V23/00;F21V17/00;F21Y101/02 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 沈波 |
地址: | 100022*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 满足 led 灯具 照射 物体 照度 分布 要求 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种满足LED灯具在被照射物体上亮度要求的装置,它以大功率发光二极管作为发光器件,属于使用大功率LED照明应用领域。
背景技术
已知白炽灯照明,它的发光源属于面光源,发光散射角度较大,指向性很弱,所以不用过多考虑普通照明的照射角度和照射面积问题。而且现有普通照明光强角度分布如图1所示,照射强度分布比较均匀,可以覆盖大概整个180度立体空间,单位面积所能照射到被照射物体的光的亮度和强度基本平衡。
现在随着发光二极管技术的发展,尤其是大功率二极管在照明上越来越受到重视,其寿命长,用电省,体积小等优点,越来越被人们所接受。但二极管基本近似一个点光源,指向性非常强,照射面积很小,要应用到大面积照明,就需要很多二极管同时发光照明,但由于二极管本身发光的光分布曲线近似成一种心形,如图(2)所示,从而在大面积照明时如果不采取一定措施的话,会出现照明面积过于集中,光照分布强弱不均,使得照明效果达不到预期的大面积均匀照明。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有的发光二极管在实现大面积照明时照明不均匀的情况,提供了一种能够满足LED灯具在被照射物体上亮度要求的装置,它除了用大功率发光二极管作为发光源以外,最主要的是此装置能够使照明装置里所发出的光在被照射物体上能够得到满足要求的光强分布。
为了实现上述功能,本装置主要包括有安装基板1、大功率LED8、透镜装置、控制电路,其中,控制电路包括电流电压转换电路10与提供恒流源电路11,为整个照明装置提供恒流。大功率LED安装在基板1上,在每个大功率LED上都安装有透镜装置,其特征在于:所述的安装基板(1)包括中间安装基板12和两边对称安装基板13,两边对称安装基板13以中间安装基板12为对称轴,成弧状排列。
所述的两边对称安装基板12相对于中间安装基板12的弯曲弧度α范围在15°到70°之间。
在安装基板上,在使用相同功率、额定工作电流的二极管的情况下,两边对称安装基板13上LED数量相对于中间安装基板12上LED的数量依次增加,达到数目上的不等,改变区域照明亮度,从而达到整体照明亮度均匀。
在安装基板上,在使用相同数目二极管的情况下,可以选择不同参数的二极管,两边对称安装基板13上LED功率相对于中间安装基板12上LED功率依次增加,使得边缘亮度可以与中间亮度相平衡,达到整体照明亮度均匀。
在各条安装基板使用相同数目和参数二极管的情况下,通过控制电路来调整各条安装基板LED所流过的电流,使流过两边对称安装基板13上LED的电流相对于中间安装基板12上LED的电流依次增加,来改变发光二极管的发光亮度。
所述的透镜装置,两边对称安装基板13上LED的透镜散射角度相对于中间安装基板12上的透镜散射角度依次减小。
整个安装基板的前端2相对于行排列方向有一个弯曲弧度β,β取值范围在20°~40°,主要是为了解决在行坐标方向上向被照物体延伸光的照射距离,增大被照射物体的照射区域面积。
本装置可以作为大面积照明时,用来调节照明设备所需要的光分布要求,最大程度上满足照射面积上的光均匀。
附图说明
图1普通照明光强角度分布图
图2LED光强角度分布图
图3(a)两边对称安装基板与相对于中间安装基板夹角示意图
图3(b)安装基板安置LED方法1
图3(c)安装基板安置LED方法2
图4(a)透镜装置的俯视图
图4(b)透镜装置的侧面剖面图
图5安装基板内侧俯视图
图6安装基板侧视图
图中:1、安装基板,2、安装基板的前端,3、安装二极管位置,4、控制电路安装区域,5、透镜,6、外壳,7、内孔,8、大功率LED,9、大功率LED安装底座,10、电压电流转换电路,11、提供恒流源电路,12、中间安装基板,13、两边对称安装基板,14、3W LED,15、5W LED,16、1W LED。
具体实施方式
下面结合图3~图5详细说明本实施例。
实施例1:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学,未经北京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200720103937.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。