[实用新型]用于硅基液晶投影机的直角偏振分合光棱镜无效

专利信息
申请号: 200720083864.X 申请日: 2007-03-22
公开(公告)号: CN201017051Y 公开(公告)日: 2008-02-06
发明(设计)人: 张红波;刘明华 申请(专利权)人: 武汉中原电子集团有限公司
主分类号: G02B5/04 分类号: G02B5/04;G02B27/10;G02B27/28;G02B1/10;G03B21/14
代理公司: 武汉楚天专利事务所 代理人: 雷速
地址: 430010湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 液晶 投影机 直角 偏振 分合 棱镜
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种棱镜,特别是一种用于硅基液晶投影机的直角偏振分合光棱镜,属数字微显示光学引擎领域。

背景技术

在光学引擎中,凡涉及到成像的光学元器件则要考虑理想成像的要求。所谓理想成像就是成像清晰和物、像相似,完全符合这一要求是不可能的,即点物不能成点像,成像有了缺陷,即产生了“像差”。虽然平板分色镜真正在光路中起作用是分色膜层,可以在照明时起分光作用,在成像时起合光作用。但是,平板分色镜在使用中,由于基片玻璃的存在,带来了两个问题:一是光线通过倾斜安放的平行平面玻璃板会产生平行的横向位移(唯有正入射才不会发生横向位移),如果是发散光或会聚光(这是经常用到的成像光路),在小角度范围时横向位移与角度是线性关系,当大角度范围时横向位移与角度是非线性关系。在成像光路中则引起像面上光学图像亦产生横向位移,随着视场角的增大,屏幕边缘的相应色光的图像位移更明显,使三色图像离散(这是光线的折射移动,而与“像差”概念无关),严重影响成像清晰。二是成像光路加入45°倾斜安放平行平面玻璃板,会产生不可避免的“像散”像差,且板越厚,像差也越大,校正很困难。可见,仅在一个光通道中使用承载分色膜层的基片平行平板玻璃,不可避免地产生了该路光学图像的横向位移以及造成像散,致使成像面上三色图案离散,无法精确对准,严重影响图像的清晰度。上述已有技术在公开号为CN1540392A的《一种反射式液晶显示光机》的专利申请文献中有所报道。

发明内容

本实用新型的目的就在于克服已有技术的不足而提供的一种设计合理、结构简单、工作有效、安装方便的用于硅基液晶投影机的直角偏振分合光棱镜。

为了达到上述目的,本实用新型采用的技术特征是:

一种用于硅基液晶投影机的直角偏振分合光棱镜,包括:等腰直角三角形棱体、偏振分合光膜和二向色分合光膜,其特征是:

所述的等腰直角三角形棱体,为一透明光学玻璃体,设有3个工作平面,即:左侧工作平面、右侧工作平面和后侧工作平面,加上左侧工作平面上的偏振分合光膜和右侧工作平面上的二向色分合光膜构成一个整体。

其中所述的左侧工作平面与后侧工作平面构成45°夹角;

所述的右侧工作平面与后侧工作平面构成45°夹角。

所述的左侧工作平面上蒸镀有偏振分合光膜。

所述的右侧工作平面上蒸镀有二向色分合光膜。

所述的后侧工作平面上蒸镀有增透膜。

此外,顶端面和底端面为非工作平面。由此,本实用新型用于硅基液晶投影机中,基于左右两个分合光膜被胶合在玻璃中,从而受到保护,使得图像象质稳定;有利于三路光通道光路平衡和象质平衡;并便于整机安装与调试,具有设计合理、结构简单、工作可靠等特点。

附图说明

图1为本实用新型整体结构示意图。其中,5-1是等腰直角三角形棱体,5-2是左侧工作平面,5-3是右侧工作平面,5-4是后侧工作平面,5-5是偏振分合光膜,5-6是二向色分合光膜,5-7是顶端面,5-8是底端面。

图2-图13为本实用新型用于硅基液晶投影机中安装设置示意图,其中,5是直角偏振分合光棱镜。且图2-图7为P态偏振光,图8-图13为S态偏振光。

具体实施方式

请参阅图1所示,为本实用新型具体实施例,其中5-1是等腰直角三角形棱体,为一透明光学玻璃体,设有3个工作平面,即:5-2是左侧工作平面、5-3是右侧工作平面和5-4是后侧工作平面,加上左侧工作平面上的5-5是偏振分合光膜和右工作平面上的5-6二向色分合光膜构成一个整体,且5-2左侧工作平面与5-4后侧工作平面构成45°夹角;5-3右侧工作平面与5-4后侧工作平面构成45°夹角。5-2左侧工作平面上蒸镀有5-5偏振分合光膜。5-3右侧工作平面上蒸镀有5-6二向色分合光膜。5-4后侧工作平面上蒸镀有增透膜。5-7顶端面和5-8底端面为非工作平面。

请参阅图2-图13为本实用新型用于硅基液晶投影机中安装设置方式,即P态偏振光有6种方式,S态偏振光有6种方式,共计12种方式。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉中原电子集团有限公司,未经武汉中原电子集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200720083864.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top