[实用新型]锥齿形介质阻挡放电等离子体化学反应器

权利要求书

1.一种锥齿形介质阻挡放电等离子体化学反应器，包括反应室罩(4)、设置在反应室罩(4)中的一对金属电极(6、9)和施加在该对金属电极(6、9)上的高压高频电源(10)，其特征在于：所述其中一个金属电极(6)的表面设计有多排锥形放电齿(12)，所述另一个金属电极(9)的表面覆盖有电介质层(8)，所述锥形放电齿(12)和电介质层(8)之间为强电离放电区域(7)，所述强电离放电区域(7)设置有反应物进口(5)和生成物出口(11)。

2.根据权利要求1所述的锥齿形介质阻挡放电等离子体化学反应器，其特征在于：所述各排锥形放电齿(12)的齿高为1～5mm、锥角为5～45°、齿端与电介质层(8)的间距为0.5～4mm，各排锥形放电齿(12)为整体连续式结构，相邻两排锥形放电齿(12)的齿间距为1.5～9mm。

3.根据权利要求1或2所述的锥齿形介质阻挡放电等离子体化学反应器，其特征在于：所述一对金属电极(6、9)是一对同心圆板形金属电极，其中一个圆板形金属电极(6)设置有中心孔，所述锥形放电齿(12)多排同心环形分布在该圆板形金属电极(6)的表面上，另一个圆板形金属电极(9)的表面覆盖圆形电介质层(8)；所述反应物进口(5)与该圆板形金属电极(6)的中心孔相连；所述生成物出口(11)与一对圆板形金属电极(6、9)的侧面四周相通。

4.根据权利要求1或2所述的锥齿形介质阻挡放电等离子体化学反应器，其特征在于：所述一对金属电极(6、9)是一对同轴圆柱形金属电极，所述锥形放电齿(12)多排同轴环形分布在内侧圆柱形金属电极(6)的表面上，外侧圆柱形金属电极(9)的表面上覆盖圆筒形电介质层(8)；所述反应物进口(5)设置在一对圆柱形金属电极(6、9)的轴向一端；所述生成物出口(11)设置在一对圆板形金属电极(6、9)的轴向另一端。

5.根据权利要求1或2所述的锥齿形介质阻挡放电等离子体化学反应器，其特征在于：所述一对金属电极(6、9)是一对平行平板形金属电极，所述锥形放电齿(12)多排平行分布在其中一个平板形金属电极(6)的表面上，另一个平板形金属电极(9)的表面覆盖平板形电介质层(8)；所述反应物进口(5)设置在一对平行平板形金属电极(6、9)的一侧，并与锥形放电齿(12)的齿线方向相垂直；所述生成物出口(11)设置在一对平行平板形金属电极(6、9)相对应的另一侧。

6.根据权利要求1或2所述的锥齿形介质阻挡放电等离子体化学反应器，其特征在于：所述电介质层(8)的电阻率大于10¹⁴Ω/cm、介电常数的值大于9，厚度为0.5～1.5mm，临界击穿电场强度≥400KV/cm、吸水率为0.0％。